中古 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293756479 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipmentは、フォトリソグラフィにおける最先端のパフォーマンスを提供する最先端のシステムです。フォトリソグラフィー（Photolithography）とは、半導体等の電子デバイスの製造工程において、基板内の特徴やパターンを作成するために使用されるツールである。TEL MARK IIフォトレジストユニットは、超小型・高精度のリソグラフィ用途向けに設計されています。パワフルでコンパクトなマシンは、高速かつ正確なフォトレジストコーティングとイメージング機能を提供します。このツールには、高精度の液体ディスペンサー、プログラマブルロボットアーム、露出および間隔パラメータを正確に制御できるイメージングアセットが装備されています。このモデルの高精度リキッドディスペンサーは、フォトレジストの均一な層を基板上に堆積させるように設計されています。ロボットアームは光への露出のための材料を正確に配置し、イメージング装置は露出の強度、持続時間、およびインシデント角度を正確に制御します。光源、ベルトマシン、フォトマスクの3段階露光ユニットを備えています。光源は、さまざまなキセノンアークランプ、UVレーザダイオード、およびDXRソースで構成されており、さまざまな露光強度とパルス長を提供します。ベルトツールには、X-Y変換ステージ、拡張範囲のある集中ズーム顕微鏡、ステッピングモータ駆動のフォーカスとズーム制御など、さまざまな機能が搭載されています。フォトマスクは、画像パターンを基板に正確に転送するために使用されます。この資産には、液体分配ロボット、化学処理ロボット、リアルタイムモニターも含まれています。液体分配ロボットは、フォトレジストの均一で多孔質のコーティングを基板に配置し、化学処理ロボットは、露出のための基板の調製のためのアプリケーション、ベーキング、化学処理、およびポストベーキングを制御します。リアルタイムモニターは、注入および硬化プロセスの監視、光源への基板の露出、および露出後のベーキングパラメータの制御をオペレータが支援します。また、各種計測機能を搭載し、基板全体の精度と均一性を確保しています。これらの機能には、マイクロメータの自動アライメント、焦点深度観測、フォトリソグラフィ時の光測定などがあります。TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipmentは、基板内の特徴やパターンを作成する上で、比類のない精度、精度、再現性を提供します。その革新的な機能と機能により、システムは想像できるほぼすべての機能サイズと複雑さを作成するために使用できます。