中古 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293748580 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON MARK IIは、半導体部品の製造に使用されるフォトレジストシステムです。半導体業界で使用されるポリシリコン、二酸化ケイ素、その他の材料から最新世代の集積回路（IC）やその他の製品を作成するために使用されるプロセスです。このシステムは、望ましいデザインやパターンを基板材料にエッチングすることによって、しばしば光を露出させるプロセスによって機能します。TEL MARK IIは、基材の表面を2つの光線で照らす2ビーム光子露出システムを採用しています。光がマスクを通り抜けると、基材に最初のデザインパターンが形成されます。光ビームは周波数依存のコンタクトマスクステージを目指し、それらのオーバーラップは基板上に所望のパターンを作成します。TOKYO ELECTRON MARK IIを使用することで、基材を適切な強度と焦点で光にさらすことができ、フォトレジスト材料の均一なコーティングと適切なエッチング深さを確保します。このフォトレジストは、プロセスの後期に基材がエッチングされないように保護するために使用されます。エッチング中、フォトレジスト材料は光の吸収材として機能し、エッチング速度を正確に制御できます。MARK IIには、基板上の露出したフォトレジスト材料を溶媒で除去するフォトレジスト開発者も含まれています。これにより、エッチング速度を制御することができます。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON MARK IIは、半導体産業における最新世代のICやその他の製品を作成するための信頼性と効果的なプロセスを提供します。その2ビーム光子露出とフォトレジスト開発者システムは、高品質で信頼性の高い製品を生産するのに役立ち、正確かつ正確な結果を保証します。