中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9364576 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8
ID: 9364576
ウェーハサイズ: 2"-6"
(3) Coater / (4) Developer system, 2"-6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8フォトレジスト装置は、半導体リソグラフィープロセス用に設計された強力なツールです。レーザー誘導熱画像技術を使用して、半導体基板の回路構造を正確にパターン化する能力を開発者に提供します。TEL MARK8は、ウェーハ面の波長248 nmまたは365 nmで基板を紫外線にさらすことができます。これにより、元のデザインに高い再現性と忠実性を備えた小さな機能の形成が可能になります。さらに、このシステムは、レーザー放射や偏光などの他の波長での基板の露出にも使用できます。このユニットはまた、製造プロセスを制御するための高度な機能を多数備えています。これは、ウェーハ上の構造物の最高分解能を容易にするために調整することができる露出の焦点を制御することを含みます。また、TOKYO ELECTRON MARK-8は、複数の露出を生成して、最適なカバレッジを持つ希望のパターンを作成することもできます。さらに、マシンの「レイヤーストップ」機能を使用して、特定のレイヤーへの露出を制限し、結果のパターンが正しいサイズと形状であることを確認できます。TOKYO ELECTRON MARK 8は、様々なリソグラフィーツールや技術をサポートし、エネルギーやフォーカスなどのプロセス変数の精度と制御を向上させます。サブミクロン構造を形成するための0。3ミクロン分解能の近接イメージング、軸外照明技術、および高機能密度の堅牢な構造の形成を可能にする多重露光ブレンドプロセスが含まれます。全体として、Mark 8ツールは半導体リソグラフィープロセスにとって重要なツールです。ミクロンよりも小さい機能でも、非常に正確な結果を出すことができます。このアセットは、多くの高度なリソグラフィ技術をサポートしており、さまざまな強力なオートメーション機能を提供しています。これは、半導体基板に複雑な構造を作成しようとしている開発者にとって非常に貴重なツールです。
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