中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9276285 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8は、半導体製造用に設計されたフォトレジスト装置です。パターニングデバイスまたはレチクルからウェーハに形状を転送するためのリソグラフィープロセスで使用される技術のシステムです。TEL MARK8は、最先端のフォトレジストユニットであり、ナノスケールまで最も信頼性の高い機能の生産を保証するために、いくつかの高度な技術を採用しています。このマシンは、フォトアライナーと露出ツールの2つの別々のコンポーネントで構成されています。フォトアライナーは、20ナノメートル以下の非常に微細な解像度を持つパターンテンプレートを作成するために使用されるレーザースキャン資産を利用しています。このテンプレートは露出モデルに供給され、UV光源を使用して形状をウェーハに「焼き付ける」ことができます。TOKYO ELECTRON MARK-8は、プロセスの解像度を制御し、作成された各機能の品質管理を保証する高度なソフトウェアを搭載しています。分散型光学補正装置と多段階のパターン生成を使用して、多数の部品にわたって一貫して微細な分解能を実現します。また、露光時間などのプロセスパラメータを調整して、ユニットの光学的歪みを補正することもできます。また、TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8では、i-LineプロセスとEUVプロセスという2つの異なるプロセスを採用しています。i-Lineプロセスは、13。5〜13。6ナノメートルの範囲の紫外線の源を使用して、3ナノメートルまでの非常に細い線を持つ構造を作成します。EUVプロセスは、波長範囲が13。5ナノメートルと短い極端な紫外線の源を備えています。このプロセスは、0。3ナノメートルの分解能でさらに細かい構造を作成します。MARK8は、ナノスケールの解像度で半導体機能の信頼性と一貫した生産を可能にするように設計された先進的なフォトレジストマシンです。これは、テンプレートを作成し、プロセスパラメータを調整し、リソグラフィを最適化するために、いくつかのユニークで高度な技術を利用しています。このツールは、i-Lineプロセスで3ナノメートルまでの解像度、さらにはEUVプロセスで0。3ナノメートルの微細な解像度を持つ機能を生成できます。