中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9239617 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8 Photoresist Equipmentは、高解像度のパターニング機能を幅広い用途に提供することができる先進的な露光ツールです。この高度なシステムは、多くのフォトリソグラフィープロセスで使用されており、基板上で高速で正確で信頼性の高いパターニングを可能にします。このユニットは、高度なミニアレイ光学系を使用して、数百ナノメートルの解像度でパターニングを行い、リソグラフィー工程やその他の高度な工程に最適です。TEL/TOKYO TEL MARK8は、ウェーハ、基板、部品の高精度なパターンを高精度・高信頼性で生成することができます。高度なレーザー伝達システムを採用しており、熱や機械的応力を発生させることなく、基板の信頼性の高い露出を可能にします。ナノメートルレベルまでパターニングが可能な高精度機です。さらに、このツールは光散乱技術を使用しており、より高速な露光を実現し、パターンの正確な定義を向上させます。このアセットは、最小限の無駄材料で基板の正確なパターンを提供するように設計されています。これは、高度なアブレーションモデルの使用によって達成されます。アブレーション（Ablation）とは、基板が高強度レーザービームにさらされ、パターン化する必要のある部分の材料を除去するプロセスです。また、強力なオートアライメントシステムなど、さまざまな高度な機能を備えているため、ビームが基板のパターンに正確に揃っていることが保証されます。TOKYO ELECTRON/TOKYO TOKYO ELECTRON MARK-8も拡張性が高くアップグレード可能です。最新のソフトウェアとハードウェアのアップグレードで構成することができ、ユーザーは最新のテクノロジーの進歩に対応する柔軟性を提供します。TEL/TOKYO ELECTRON/TOKYO TEL Mark 8は、すべてのフォトリソグラフィ要件に最適なツールです。高い精度と信頼性により、基板に必要なパターニングを容易かつ正確に行うことができます。ナノメートルレベルまでパターニングを行うことができ、高精度な結果が得られます。このマシンは、フォトリソグラフィーベースのプロセスに関与する任意の実験室やメーカーにとって貴重なツールです。