中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155226 を販売中
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ID: 9155226
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
Wafer coater, 8"
Wafer loading type: Right to Left
Software version: MK8H2.78(MC) M8B9083D.00 (Block)
Coater unit:
Pump model: RRC
Nozzle count: 3
Development unit:
Dev nozzle: H-Nozzle
Dev nozzle Count: 2
Up/Down move: Cylinder
Rinse nozzle: Stream
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8は、フォトリソグラフィと半導体製造プロセス用に設計されたフォトレジスト機器です。最先端の技術を駆使して感光材料を光に正確に露出させ、半導体ウェーハ上にパターンなどの画像を作成します。このシステムは、集積回路（IC）やその他のマイクロエレクトロニクス部品やデバイスの製造に広く使用されています。TEL MARK8は、単位集積型デジタルレーザーソースユニット（DLSU）を使用して、深紫外線（UV）範囲を含むレーザー光の波長範囲を生成します。紫外線露出エネルギーは、マイクロジュール単位で設定することができ、イメージングプロセスの優れた分解能を可能にします。レーザーのVariable Field of View （VFoV）は、数ミリメートルから8インチ（200 mm）までの幅広い露光フィールドサイズを可能にし、リソグラフィープロセスの柔軟性と精度を向上させます。また、ウェーハを3軸（X、 Y、 Z）方向に動かすステージ機構も備えています。レーザーソースユニットと組み合わせることで、ウェハ裏面やフロント側に感光材を正確かつ正確に露出させることができます。また、ステージには非常に低いサーマルドリフトがあり、優れたアップタイム性能とウェーハ間の再現性を備えています。TOKYO ELECTRON MARK-8にはフルオートロードロック（FALL）も装備されており、メインチャンバーからプロセスチャンバーへの複数のウェーハの高速・簡単・安全な転送が可能です。FALLツールは最大20個のウェーハを収容でき、半自動ウェーハローダーは50個に増やすことができます。TEL MARK-8の処理オプションは、手動ノブまたはコンピュータを介して駆動される設定で、処理パラメータを正確に制御できます。このアセットには、高度な排水方法、障害検出機能、モデル診断などの追加のプロセスオプションもあります。最後に、機器は、追加のプロセスパラメータ、特殊なハードウェアとソフトウェア、およびその他の追加機能など、特定の顧客の要件を満たすようにカスタマイズできます。Mark 8は、感光材料の正確な露光に優れた精度、再現性、信頼性を提供する汎用性の高い高精度システムです。これらの露出パラメータを最適化することにより、このユニットはさまざまなIC製造およびマイクロエレクトロニクスデバイス製造プロセスに最適です。
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