中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109451 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8フォトレジスト装置は、ウェーハ加工における高度なフォトレジスト加工用に設計されています。半導体業界のウェーハ製造プロセスに精密フォトリソグラフィを提供します。TEL MARK8 Photoresist Systemは、高解像度のマスクアライナーを使用して、フォトレジストフィルムをウェーハ表面に合わせて露出させます。ウェーハへのフォトマスクの正確なアライメントを提供する高速レーザーを装備しています。アライナーはまた、さまざまなウェーハ設計の要件を満たすために、調整可能なピッチ範囲を備えた自動スプレーアライメント機能を備えています。フォトレジスト素材は、ウェーハのサイズに合わせて設計できるタンクに収納されています。材料を熱室にポンプで送り、必要な温度に加熱してからスピンナステーションに移します。フォトレジストは、制御された速度でウェーハに回転し、フォトレジストの薄い層を形成します。同時に、フォトレジストは、必要な結果を可能にするためにマスクアライナーとダイレクトイメージングツールから紫外線にさらされます。このプロセスは、フォトレジストを暴露することとして知られています。TOKYO ELECTRON MARK-8フォトレジストユニットには、高精度ウェーハ製造プロセス向けに設計された「マルチレイヤフォトレジストスプレー」が搭載されています。この機能により、フォトレジストをウェーハ上の複数の層にスプレーすることができます。各層が噴霧されて露出された後、材料はフォトレジスト層を修正するために加熱または冷却されます。開発したウェーハは、露出したフォトレジストをウェーハから剥離するために、アルカリ溶液などの化学開発者が適用される開発ステーションに転送されます。最終的な結果は、さらなる処理の準備ができたクリーンなウェーハです。一貫した結果を得るために、このマシンには温度および圧力制御ツールが装備されており、フォトレジストプロセスのさまざまなステップをより良く制御できます。アセットにはさまざまなソフトウェアツールが付属しており、ユーザーはフォトレジストプロセスを最初から最後まで監視および制御できます。TEL MARK-8 Photoresist Modelは、他のウェーハ製造装置とも互換性があり、フォトリソグラフィープロセスをより大きなウェーハ製造プロセスに容易に統合できます。