中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9409177 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipmentは、半導体ウェーハ上のフォトレジストフィルムを全自動で高精度に処理するシステムです。高度な制御ユニットと独自のアルゴリズムを使用して、薄膜材料の高精度な処理を提供します。精密フィルムアプリケーションアームとレーザー光学式高解像度スキャン装置を備えており、堆積膜の厚さを検出し、厚さ分布を分析することができます。また、一貫した膜厚と温度を確保するための温度制御機能を提供します。フォトレジストツールは、2つのステップでウェーハ上にフィルムを処理します。1つ目はフィルムコーティングで、1つのアプリケーションアームで薄膜材料をウェーハに堆積させ、フォトレジスト加工を行います。レーザー光学の高分解能の走査装置はフィルムの厚さの配分を分析し、それに応じて沈殿を調節するのに使用されています。フォトレジスト材料をウェーハに転送する前に、堆積膜の厚さを検出し、厚さ分布を分析することができます。このアセットには、薄膜材料の一貫した処理を提供する温度制御機能も含まれています。この機能は、処理中に均一な膜厚と温度を確保するために使用することができます。安定した高品質なフィルムを実現するためには、温度制御が重要です。薄膜層は、ウェーハ上に配置されたフォトリソグラフィックマスクを使用してさらに処理されます。その後、高出力レーザーを使用してフォトレジスト材料を開発します。フォトレジスト素材を選択的にウェーハ上の不要な素材を除去するソリューションにウェーハがさらされるコーティングステップが続いています。また、ウェーハから不要な素材をエッチングするエッチング加工も可能です。さらに、微細な特徴の検査を伴うファインピッチ解析も可能です。TEL MARK7フォトレジスト装置は、半導体ウェーハ上のフィルムの信頼性と正確な加工を提供します。高度な制御システムと独自のアルゴリズムを備えており、薄膜材料の一貫した高精度処理を可能にします。温度制御により、均一な膜厚と温度を確保し、加工安定性を向上させます。さらに、ウェーハ上の微細な特徴を検査することができるため、便利なファインピッチ解析が可能です。