中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9250083 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9250083
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1993
Coater / (2) Developer system, 6" 1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7は、半導体製造で一般的に使用される高度で汎用性の高いフォトリソグラフィ機器です。電子部品やその他の複雑なマイクロデバイスを構築するために、金属、ポリマー、結晶材料の複雑な層を生成することができます。システムは、クリーンルーム施設に収容されている大規模な環境チャンバー内に含まれる一連のコンポーネントで構成されています。プロセスは、デバイス基板に適用されるフォトレジスト材料の薄い層から始まります。その後、基質は極端な紫外(EUV)光パルスにさらされ、フォトレジスト内で反応を引き起こします。それが露出されるように、分子間に化学結合が形成され、EUVビームのパターンに固有の形状を形成します。この化学反応はフォトレジストを硬化させ、プロセスの次のステップにマスクを提供します。硬化フォトレジストは、基板の露出部分のいずれかを除去する化学エッチングにさらされます。エッチング化学物質は気体または液体であり、基板上に堆積します。エッチング処理は、材料に希望の形状がエッチングされるまで基板全体で繰り返されます。この化学エッチングは高精度であり、高精度で監視および調整することができます。特に、エッチングプロセスは複雑なマイクロデバイスに不可欠な複雑で正確な回路線の形成を可能にします。次に、残りのフォトレジストはプラズマアッシャーで取り除かれ、別の材料の堆積が適用される可能性があります。この段階で使用される材料は通常ポリマーであり、高度なプロセス制御機能のおかげで高い精度で適用することができます。また、材料選択の最適化を可能にし、導電性などの材料の電子特性の最適化を可能にします。TEL MARK7プロセスの最後のステップは、アルミや銅などの金属層の堆積です。金属蒸着プロセスはポリマー蒸着プロセスに似ていますが、スパッタ蒸着機として知られる特殊な真空ツールを使用しています。このツールは、基板上の金属蒸着のための効率的な真空プロセスを提供するように設計されています。特に、スパッタ蒸着ツールは高度にカスタマイズして制御することができ、相互接続に使用される複雑な金属接点の開発を可能にします。東京電子MARK-7は、他のプロセスとは異なり、金属の複数の層を処理することができ、より深い相互接続の形成や多層構造の構築を可能にします。MARK7は、複雑なエレクトロニクスやマイクロデバイスの生産に優れた資産です。フォトリソグラフィ、ポリマー蒸着、金属蒸着など、いくつかの技術を1つのシームレスなプロセスに組み合わせる。このプロセス全体の密接な制御により、システム出力が非常に高品質であることが保証され、正確な寸法の複雑なデバイスの構築が可能になります。
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