中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9241222 を販売中

TEL （TE） TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7 Photoresist Equipmentは、フォトレジストの薄膜層の成膜とパターン化に使用される半導体製造のデバイスです。現在の半導体業界の高度な要求を満たすように設計されており、正確なアスペクト比で高解像度の画像やパターンを生成することができます。このシステムは、コントローラ、安定したテーブル、および光学チャンバーの3つの主要コンポーネントで構成されています。コントローラは、リアルタイムコンピューティング、データ分析、フィードバック信号を使用して、厳格なプロセス要件を満たすためのユニット制御および操作の主要コンポーネントです。安定したテーブルはコーティングおよびパターニングプロセスの間に基質の正確な配置を保障します。光学室はイメージングプロセスを担当し、パターニングに使用されるレーザービームの経路長と位置決めを正確に制御する機能を備えています。TEL MARK7には、パフォーマンスと精度を向上させるいくつかの機能もあります。低温プラズマ活性化層は、均一なレジスト層の厚さと基板表面へのレジストの接着性の向上を確保するために使用されます。高解像度のバイナリステッパーと高度な光学チャンバーを使用することで、高解像度のパターンを作成するために光の露出を正確に制御できます。さらに、マシンは、所望の最終パターンを取得するためにプロセスを微調整する機能を持っています。TOKYO ELECTRON MARK-7を使用することで、0。125マイクロメートルの薄膜層を精密に微細化することができます。光の露出を正確に制御する機能により、さまざまな形状やフィーチャーサイズのレイヤーを作成できます。このツールはまた、パルス周波数、スポットサイズ、露出エネルギーなど、幅広い動作パラメータをサポートしています。これにより、MARK7は複雑な形状やフィーチャーサイズの加工に適した資産となります。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7は、シンプルで直感的なユーザーインターフェースを提供し、モデルの簡単なセットアップと操作を可能にします。装置には、ユーザーがプロセスの各ステップを監視し、必要な調整を行うことができ、包括的な診断および制御システムが付属しています。結論として、TE TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist Unitは、フォトレジストの成膜とパターン作成に効果的かつ効率的なプラットフォームを提供します。高度な機能、高度な光学系、および包括的な機械制御の組み合わせにより、ユーザーは正確なアスペクト比とフィーチャーサイズの高解像度パターンを生成することができます。東京エレクトロンマーク7は、薄膜デバイスやアプリケーションの製造に最適なツールです。