中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #143980 を販売中
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ID: 143980
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
Coater / Developer system, 8"
Process: PIX Coat
Software Version: MK807.38
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 4 Loader Uni Cassette
System configuration:
Clean track Mark7
Mark 7 main body
Carrier station 1 x 4 side loading
UPS applicable for AC power box upgrade
Process station block
High speed interface station for canon es3
Wafer edge exposure (wee)
Inline thickness measurement system
Car applicable system closed environment
Solvent supply system for cot unit
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
Dev solution supply system
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
NH3 monitor specification
Photo resist coater unit (2 cups)
(1 nozzle per cup with RDS pump for cot 2-1, 2-2 & 2-3)
(1 nozzle per cup with cyber pump for cot 2-1)
Coater cup temperature synchronized control system
Developer unit (2 cups)
(E2 nozzle + normal rinse nozzle; 1set)
Degas module installation
Adhesion unit (ADH)
Hot plate
Cool plate
Precision hot plate (PHP)
Precision chilling hot plate (PCH)
Air control kit for PCH & PHP
Trancision chilling plate (TCP)
External chemical cabinet
Temperature & humidity controller esa-4 (CAR)
Temperature control unit (TCU)
Software options
On-line software (TEL-GEM standard)
Advance cascading software option
Parallel processing software option
Process log software option
TEL S2-93 safety specification
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipmentは、半導体ウェーハ上に画像を作成するためのシステムです。Positive ToneとNegative Toneの2種類のフォトレジストを使用して、使用するタイプによって異なる波長の光に反応する光感受性材料をウェーハに塗布します。このマシンは、2つの異なる技術を組み合わせてウェーハ上に画像を作成します。フォトマスクは、フィルムのシートに印刷されたパターンです。フィルムは光源とウェーハの間に位置し、使用するフォトレジストの種類に応じて、光がブロックされるか、またはウェーハ上のフォトレジストに影響を与えるためにマスクを通過することが許可されます。Direct Writeは、細かく集中した光ビームを使用して、ウェーハにパターンを直接描画するコンピュータ制御ツールです。TEL MARK7 Photoresist Assetは、マスフローモジュール（MFM）、ロードロックおよびオリエンテーションモデル、スピナー、ロボット型自動転換装置（RTCS）、マスクアライナー、ダイレクトライティングシステムなど、いくつかのコンポーネントで構成されています。MFMは、温度、ガス流量、圧力など、フォトレジストのビーカーに関連するいくつかのパラメータを測定し、必要に応じてそれらを調整します。LoadlockとOrientation Unitは、ウェーハをスピナー内の指定位置に配置します。スピナーは高速でウェーハを回転させ、表面にフォトレジストを均一にコーティングします。ロボットタイプオートチェンジ機は、フォトレジストの中古ビーカーを新鮮なものに自動的に置き換えます。マスクアライナーはフィルムマスクを受け取り、それらをウェーハに集中させます。最後に、ダイレクトライティングツールはレーザーを使用して、所定のパラメータに従ってパターンをウェーハに描画します。不要なフォトレジストは、通常酸の混合物を含むクリーニングプロセスを使用して除去されます。プロセス全体はほんの数秒で、サブミクロン機能を生成することができます。TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist Assetは、集積回路を製造するために半導体ウェーハ上に画像を作成するために使用される多くのシステムの1つです。それは非常に精密で、信頼性が高く、効率的であり、半導体業界に革命をもたらしました。
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