中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithus #9290887 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Lithusは、ナノスケール構造物の高精細リソグラフィを可能にするフォトレジスト装置です。このシステムは、最大10nmの分解能を持つため、ナノスケールの研究開発アプリケーションだけでなく、大規模な集積回路（LSI）の生産にも最適です。ユニットは、光学レンズを使用して基板を被覆するフォトレジストのフィルムを通して光を投影する機械で構成されています。このツールは、特定の角度で光を導くために校正され、照明付きフォトレジストのパターンが作成されます。フォトレジストは、光にさらされたときに異なる反応をする光感受性材料です。フォトレジストの組成や露出を変えることで、基板上で作られるパターンの化学を制御することができます。アセットは、光強度を制御する機能、レンズの傾きを制御する機能、外部ソースからパターンを生成する機能など、多くの高度な機能でさらに調整することができます。これらの機能により、ユーザーはニーズに応じてより正確なパターンを作成できます。さらに電動基板調整段を装備し、最適な分解能を得るために基板を最適化することも可能です。TEL Lithus装置は、露光プロセス中の基板配置の精度を監視する自動基板位置決めシステムも提供します。これにより、ユーザーはナノメートル公差に正確にアライメントすることができます。さらに、高いスループット率を実現するように設計されており、自動処理機能を備えているため、多数の基板をバッチ処理することができます。また、生成するパターンの品質を監視するために使用することができ、操作が容易なユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供します。ユーザーは素早くプロセスパラメータを設定することができ、ツールは所望の結果に応じて動作中に自動的に設定を調整することができます。さらに、露光プロセス後のFRAP（蛍光回収後）やEELS（電子エネルギー損失分光法）などの高度な解析もアセットを使用して行うことができます。TOKYO ELECTRON Lithusモデルは、ナノスケールの高精細パターンを作成するために設計された先進的なフォトレジスト機器です。高度な機能とオートメーション機能を組み合わせることで、高精度なフォトマスクを作成し、高精度なナノ構造を製造するための高効率なシステムです。