中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9362296 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 9362296
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Coater / Developer system, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithiusは、集積回路(IC)、薄膜トランジスタ(TFT)、マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)の開発に使用されるフォトレジスト機器です。このシステムは、フォトリソグラフィ、エッチング、コーティング技術を組み合わせてシリコンウェーハ上に複雑なパターンを作成し、複雑なIC、 TFT、 MEMSデバイスを生成するために使用されます。TEL Lithiusユニットは、フォトレジストを適用したマスクのないウエハから始まります。フォトレジストは、ウェーハ上にリソグラフィックパターンを作成するために使用される光に敏感な材料です。マスクレスプロジェクターや接触印刷ツールなどの光源を使用して、ウェーハの領域を光パターンや画像に露出させます。露出が完了したら、ウェーハを露出後のベークで加熱し、フォトレジストの露出領域を硬化させます。フォトレジストの露出していない部分は、化学または水の開発者を使用して取り除かれます。これはさらなる処理に使用できる露出フォトレジストのパターンを残します。次に、プラズマ、イオンミル、リアクティブイオンエッチャー(RIE)またはその他の技術を使用して、露出したパターンを基板に転送するエッチングです。このエッチングステップは、ウェーハから不純物やパターン化されたフォトレジストを除去し、基板上に小さな特徴を作り出します。最後に、パターン化されたウェーハには、物理蒸着(PVD)または化学蒸着(CVD)を使用して金属などの薄膜をコーティングします。この層は、デバイスに電気伝導性や屈曲性などの電気的または機械的特性を追加しながら、基盤となるウェーハを保護します。東京エレクトロンリチウスマシンは、ウェーハ上に複雑なパターンを高精度に作成できるため、現代のIC、 TFT、 MEMSの製造にとって重要なツールです。利用可能なマスク、光源、化学エッチング剤により、ナノメートルレベルの解像度に達する特長サイズの高精度な3D構造を作成できます。この資産は、次世代のエレクトロニクスとマイクロシステムを作成するための不可欠なツールの1つです。
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