中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9355520 を販売中

ID: 9355520
ウェーハサイズ: 12"
Coater / Developer system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Lithiusは、専用のフォトレジストコーティングを使用してウェーハや基板にデバイスのパターンを転送するフォトリソグラフィ機器です。フォトリソグラフィーは、フォトリソグラフィー材料の薄い層の特定の領域を紫外線にさらすプロセスであり、露出された材料がより化学的に敏感になる原因となります。これにより、露出した材料をフォトレジスト層の形態パターンに化学除去することができます。TEL Lithiusフォトリソグラフィーシステムは、高度なコーティングプロセスを利用して、幅広い基板上に微細・ナノメートルスケールの複雑な特徴とパターンを作成します。フォトリソグラフィープロセスの最初のステップは、フォトレジストのフィルムで基板をコーティングすることです。ディスペンサーは基板上にフォトレジストの均一な層を作成し、作成するパターンを自動的に調整します。フォトレジストは複合光学ユニット(SITEX)を介して紫外線にさらされます。マスクを通して透過する紫外線は、レジストに向けて所望のパターンを作成します。その後、露出レジストを開発し、露出した材料をフォームのパターンに除去します。開発された基板はその後処理され、洗浄され、パターンはフォトレジストプロセスであり、SITEXマシンでさらに低減されます。東京エレクトロンリチウスフォトリソグラフィーツールは、マイクロおよびナノメートルスケールの機能に加えて、高分解能材料を使用して高密度デバイスパターンを作成することも可能です。また、品質管理のための高度な自動化およびプロセス監視システムと幅広い基板を採用し、コストを効果的に削減するために抵抗します。Lithiusによるフォトリソグラフィープロセスは、半導体デバイスの製造とパターン作成に不可欠です。フォトレジストは、除去された材料の量を非常に迅速かつ正確に制御できるため、細かいパターニングのための主要なツールとなります。このモデルは、複雑な半導体デバイスを作成するために必要なフィーチャーサイズやその他の重要なリソグラフィーパラメータの制御を提供します。この装置は、トランジスタ、集積回路、メモリチップ、完全なマイクロプロセッサ、およびその他の電子部品の製造に使用されます。
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