中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9351478 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Lithiusは、半導体とフォトマスクの製造に使用されるフォトレジスト機器です。このシステムは、洗練されたダイレクトライトレーザーリソグラフィー（DWL）ユニットを使用して、レジストの細かいパターンを作成します。分解能は25nmで、デバイスとフォトマスクの両方で最新のナノスケール機能を作成するのに適しています。TEL Lithiusマシンは、非常に高解像度、高スループット、低コストのフォトリソグラフィーツールを提供するフォトレジスト技術の最新のマシンです。この資産は、従来の正負フォトレジストからドライフィルムフォトレジスト、スピンコートフォトレジストまで、さまざまなレジストプロセスで使用するのに十分な汎用性があります。東京エレクトロンリチウスモデルは、高度なリソグラフィを提供するだけでなく、レジスト反射率を監視するオンボード計測装置を備えた優れたプロセス制御を提供します。レジストパターニングのプロセスは、フォトレジストの照明から始まります。Lithiusシステムは、光学ユニットを備えたフォーカスレーザーを使用して、レーザービームを正確に調整してフォトレジストをパターン化します。この機械は25nmの最もよい特徴のサイズの単一の抵抗パターンを書くことができます。それからドライクリーニングの統合された用具は開発のステップの前に基質から不純物および他の抵抗を取除くことができます。レジストが開発されると、オンボードメトロロジーアセットで平面化および金属化する準備が整います。TEL/TOKYO ELECTRON Lithius独自の計測モデルは、金属蒸着プロセスにおける基板の条件を最適化するために、レジスト反射率に関するフィードバックを提供します。計測装置は、エッチング速度、エッチング均一性、および金属蒸着速度を監視することもできます。フォトレジストシステムがレジストパターニングおよび金属蒸着プロセスを完了すると、化学機械的平面化、エッチング、誘電体の蒸着などの追加の後処理ステップが実行される可能性があります。結果として得られたデバイスは、包装と顧客への出荷の準備ができています。結論として、TEL Lithiusの高度な設計と加工能力は、あらゆる半導体やフォトマスク製造プロセスに最適です。優れた解像度、高スループット、計測ユニットの性能により、デバイスの作成を高速化し、サイクル時間とコストを削減できます。