中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9308715 を販売中
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ID: 9308715
ウェーハサイズ: 12"
(2) Coater / (3) Developer systems, 12"
Single block for NSR S308
(4) Blocks interfaced:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Wafer transfer robot arms:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Cassettes FOUP Design
SECSI/II, HSMS and GEM Interface required IUSC
Interface is to NSR S308
(2) Coaters (COT)
(4-8) Resist nozzles with temperature control per coater
One touch filter
For resist and solvent
Mass flow controller
(3) Developers (DEV)
NLD Nozzles with temperature control per cup
(3) PRD Nozzles
Developer
One touch developer filter
Thermo Controller Unit (TCU) Inside track
(2) Adhesion Process Stations (ADH)
(5) Chill Plate Process Stations (CPL)
Transfer Chill Plate (WCPL)
(2) Low Temperature Hot Plate (LHP)
N2 Purge capability
(6) Precision Chilling Hot Plate Process Stations (CPHG)
Wafer Edge Exposure system (WEE)
Interface block
Single pincette wafer transfer with centering guides
For standard wafer arm and interface panel to accommodate
Buffer cassette, 3"-6"
Subcomponents:
Temperature
Humidity controller
(2) Chemical cabinets
AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithiusは、フォトレジストパターンの開発に使用される高度で信頼性の高いリソグラフィ処理装置を提供します。フォトレジストとは、金属、プラスチック、セラミックス、半導体などの材料のパターンを生成するために、リソグラフィ工程で使用される材料です。TEL Lithiusは、フォトレジストを多種多様な素材で開発できる統合処理システムを提供しています。フォトレジストは、スピンコーティングによって材料の表面に適用され、フォトレジストを選択的に除去または硬化させるために、さまざまな波長と強度の光にさらされます。得られたエッチングパターンは、フォトレジストの光の露出と結晶化に応じて生成されます。フォトレジストは、パターン化された光の送信媒体であるフォトマスク、またはプログラム可能なコンピュータ生成パターンを使用してパターン化することもできます。シリコンウエハ、ガラスプレート、ポリマー、紙、繊維製品など幅広い素材に対応できるよう設計されています。露出された基板は、露出されたフォトレジストを高精度で基板に除去または硬化させるさまざまなソリューションを使用して開発されます。その結果、正確な特徴と高い表面品質を備えたパターン化された基板が得られます。このマシンは、フォトレジストを基板に正確かつ均等に適用するための自動化されたアライメントとユニークなフィルム拡散機構を備えています。それはまた調節可能な露出および一定した温度が付いている革新的なプロセス部屋用具を一貫した結果を作成するために特色にします。また、オンボードアセット制御により、露光時間、光の波長、シャッタースピードなど、さまざまなパラメータを設定することができ、最も効果的な結果が得られます。このモデルには、再現可能な結果を保証するための包括的な監視装置も含まれています。東京エレクトロンリチウスフォトレジストシステムは、信頼性と再現性の高い結果を提供する、最も信頼性の高い高度なリソグラフィック処理システムの1つであるように設計されています。これは、精度と信頼性の高い結果を持つ様々な材料の自動処理を可能にするように特別に設計されています。
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