中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293671305 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Lithiusは、半導体業界のリソグラフィ用途に使用されるフォトレジスト機器です。光可塑性化合物と有機溶媒などの光可塑性媒体の混合物から作られたレジストフィルムです。集積回路やMEMSなどの半導体パターンに最も一般的に使用されます。まずはレジストフィルムで基板をコーティングします。フィルムは、高速で回転するスピンコーターを使用して、基板全体にレジストを均等に広げます。レジストは、使用されているレジストの種類に応じて、紫外線やその他の電磁放射を使用してイメージされます。画像が露出した後、溶媒で露出レジストを除去することによって開発されます。これは、基板上の作業層のパターンを明らかにします。レジストシステムは、紫外線に非常に敏感であり、その化学組成は、過酷な条件下で安定したままです。優れた接着性により、基材損傷の可能性を排除し、汚染を最小限に抑えます。このユニットは、欠陥を正確に検出する機能と、大きなパターンを処理する機能も備えています。これにより、高密度で高精度なパターニングプロセスに最適です。機械の優れた安定性により、ライン幅と形状は時間の経過とともに縮小または拡大することなく一貫した状態を維持します。レジストフィルムは紫外線に敏感なので、フィルムにサンプルを置くことでサンプルを調べることもできます。これにより、欠陥を0.1µmだけ小さく検出したり、0.01µm精度でフィーチャーサイズを測定したりできます。また、0。001nmの精度で異なるレイヤーのフィーチャーの高さを検出することもできます。レジストツールは、厚さが1nm以下の高いアスペクト比の構造を加工することもできます。これにより、エッチング構造、特に現代の半導体リソグラフィに最適です。アセットの感度と安定性の組み合わせにより、ウェハリソグラフィから新興のMEMS構造、高度なパッケージング構造まで、幅広い用途で一般的に使用されています。このモデルは、高性能で再現性があるため、計測にも使用されます。TEL Lithiusは、半導体およびMEMSプロジェクトで使用されるユニークなフォトレジスト機器です。過酷な環境条件、優れた接着性、精度に耐えることができるため、リソグラフィープロセスや計測アプリケーションに最適です。先進的なMEMSパターニングとパッケージングの登場により、レジストシステムはこれらの新技術に必要な詳細なパターンを作成するための不可欠なツールとなっています。