中古 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius i+ #9171607 を販売中
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ID: 9171607
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2002
Coater / Developer system, 12"
Model no: T&H-ME1-4AAZAZZ-01
Wafer type: Notch
Wafer material: Si
Signal tower: ETC (4) Lamps
On-line interface: SECS II / GEM
In-line: Yes
Make: NIKON
Model: NSR
Main controller: Version 4
Layout type: IFB, PSB, CSB (Touch)
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius i+は、半導体デバイスの微細加工において、正確かつ効率的なリソグラフィカル処理を実現するフォトレジスト機器です。ミリメートルスケールとナノメートルスケールのデバイスの製造において、可能な限り最高レベルの精度と生産を保証するように設計されています。このシステムは、シャッター、レンズ、露出ビーム源からなるリトセルの周りに構築され、それぞれがデジタル制御を備えています。シャッターは、最適な位置決めと露出を確保するためにコントローラによって制御される高度なピエゾアクチュエータです。このレンズは、ウェーハ上でパターンを作成するための高解像度回折イメージングオプティクスを提供します。レンズがウェーハに近接しているため、リソグラフィープロセスのための高分解能ジオメトリが保証されます。露出ビーム源は、ウェーハ表面に最適なパターンを提供するために、デジタル光学および光学モデルを使用するレーザーです。このユニットには焦点を当てた短いパルスレーザー源があり、ウェーハの微細加工やレーザーダイレクトライティング材料などの高分解能パターンを作成するために使用されます。この焦点を当てたショートパルスレーザーソースは、ウェーハ上の既存の機能の変更、新機能の作成、およびリソグラフィ精度を必要とする幅広いアプリケーションなど、多くのアプリケーションに最適です。ソースは、歪みや損傷のない様々な材料に画像を投影することができ、効率的に幅広いリトグラフィカル機能を提供します。このマシンには、効率的な生産能力を可能にする他の多くのコンポーネントも含まれています。これらのコンポーネントには、自動基板カセット処理と、簡単にプログラム可能なオートフォーカス機能が含まれます。オートフォーカスにより、各ウェハが露出し、最適な精度でパターン化されます。制御プラットフォームは、高度なユーザーインターフェイスであり、直感的でユーザーフレンドリーであるように設計されており、複数の露出、複数のレシピの開発、コンポーネントのカウントなど、多くの複雑なタスクが可能です。このアセットには、露出後のアライメント、トラッキング、高速ウェーハの反り補正など、さまざまなトレーサビリティ機能も含まれています。これにより、最も厳しい生産スケジュールでもモデルを使用することができます。TEL Lithius i+は、比類のない精度で効率的なリトグラフィカルソリューションを提供する高度なフォトレジスト機器です。コンポーネントの範囲、自動化された機能、トレーサビリティオプションにより、システムをさまざまなアプリケーションや生産要件に使用できます。
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