中古 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380675 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600フォトレジスト装置は、パターン変形を最小限に抑えたフォトレジスト素材の露光用に設計されたモノリシックリソグラフィーシステムです。誘電率の均一性に優れ、従来のリソグラフィ露光システムと比較して極めて精度が高く、収率に優れた微細な機能を印刷することができます。このユニットは、高度な高周波マスク保持機、オートフォーカス、レーザーアライメントなど、さまざまな機能を統合しています。TEL CS-600は10nmのステージ精度を提供し、重要な機能の順序でレジストの高精度パターニングを可能にします。この精度を維持するために、高精度のリニアモーターステージ駆動工具を採用し、熱機械的変動を補正し、再現性の高い高精度露光を実現しています。また、高精度なリニアモーターステージドライブツールを採用しているのが東京エレクトロンCS-600です。アセットの高周波マスク保持モデルは、誘電体5-500nmの厚さのマスクセットをサポートし、フォトレジスト材料の複雑で細かい特徴を正確に露出させることができます。CS-600のレーザーアライメント装置は、基板に対するフォトマスクのアライメントを保証し、高解像度の結果を得るための安定したパターニングプロセスを提供します。このシステムのオートフォーカス機能により、露光プロセス全体でナノスケールの精度が保証されます。TEL/TOKYO ELECTRON CS-600は、特許取得済みの高解像度レーザーダイオードを使用して、フォトレジストパターンのクリティカルエッジを測定し、自動的に焦点を調整します。これにより、基板の地形や粗さが変化しても、一貫して正確なパターンが得られます。また、TEL CS-600は、波長5nmでの超高解像度イメージングや数値絞りなど、さまざまなハイエンド機能を提供しています。これにより、高いスループット性能と非常に低い欠陥率が得られます。TOKYO ELECTRON CS-600は、進化するマイクロエレクトロニクス業界の課題に対応するために設計された、正確で使いやすい信頼性の高いフォトレジストユニットです。高精度な繰り返し露光によりエッジ分解能を5nmまで実現し、高解像度のパターンを優れた歩留まりで印刷することができます。そのため、高度で大量のマイクロエレクトロニクス用途に最適なソリューションです。