中古 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380673 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600は、半導体業界のデバイス製造用に設計されたフォトレジスト加工装置です。このシステムは、独自の蒸気相プロセスを使用して、フォトレジストアプリケーションの露光均一性、スループット、および歩留まりを最大化します。TEL CS-600は、複雑なデバイス製造のための完全に制御されたプロセス環境を提供する完全に統合されたユニットです。このマシンにはトップローダーと真空アームが装備されており、キャリアから部品を選択してから、統合されたCD/DVDバーナーでプログラムされたように処理するように設計されています。このCD/DVDバーナーは、フォトマスクを受ける前に生のデータを読み取り、保存し、レジストにさらされる機能を提供します。CD/DVDバーナーには、詳細なプロセス制御を可能にする強化されたデータ転送平均も含まれています。フォトマスクはプロセスの重要な部分です。フォトマスクは、フォトレジスト材料の露出を制限し、集中させるために使用されます。TOKYO ELECTRON CS-600で使用されているフォトマスクは、お客様の仕様に合わせて設計されたさまざまなサイズと形状のさまざまな機能を備えています。このプロセスの一環として、CS-600は、リソグラフィーレンズ、ガラストップ、マスク露出窓、統合マスクアライナーなどの一連の精密光学部品を利用しています。マイクロリソグラフィーTEL/TOKYO ELECTRON CS-600には、画像処理用のAW-N120ソフトウェアが組み込まれています。このソフトウェアは、レーザー露光パラメータを設定して画像を微調整し、最高の精度を保証するように設計されています。イメージングプロセス後、TEL CS-600には露光均一性を保証する自動レーザースキャンキャリブレーションツールが装備されています。TOKYO ELECTRON CS-600には、フォトレジストを損傷から保護するために設計された3つの焼き込みプロセスが装備されています。スピンコーティング工程でフォトレジスト表面を高温で焼成することにより、CS-600は、信頼性の高い表面接着のための最高品質の均一性と最大の接着特性を保証します。さらに、このアセットはフォトレジストを反射するポストベークプロセスを組み込むように設計されており、その後の処理中にフォトレジスト材料が損傷するのを防ぎます。最後に、TEL/TOKYO ELECTRON CS-600は、独自の高度なアルゴリズムを採用し、複数のセンサーを使用して、制御された均一な厚さで基板全体に正確にレジストを適用する独自のレベリングプロセスを備えています。これは、デバイスの信頼性の高い均一性と歩留まりを保証するため、デバイス製造にとって重要な機能です。TEL CS-600は、完全に制御されたプロセス環境と高解像度イメージングを必要とするデバイスメーカーに最適です。TOKYO ELECTRON CS-600は、高解像度フォトマスクを用いてデバイス製造を行う半導体のプロフェッショナル向けに、精密な性能、制御環境、自動化プロセスを備えています。