中古 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380670 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600 Photoresist Equipmentは、高精度で生産性の高いCS300システムに基づいた完全なリソグラフィックスイートです。このユニットは、リソグラフィ用の最先端のエキシマレーザーソースと、レジストの均一性と露出後のベーキング用の4ゾーンベーキングモジュールを使用しています。特に、メモリ、ロジック、CMOSデバイスなどの集積回路の大量生産用に設計されています。TEL CS-600は、高度なレーザー投影アライメント検出器を使用して、マスクを基板に正確かつ正確にアライメントします。この高度なレーザーアライメント技術により、精密なリソグラフィ処理と高いプロセス歩留まりを実現します。オートフォーカス検出器を使用してレーザーフォーカス位置を制御し、レンズを減らしてマシンの生産性を最大限に高めます。レーザー露光パラメータは、レーザーの多段放射構造と異なるdefocus設定を使用して正確に最適化されます。東京電子CS-600のオーバーレイ精度は、レーザービームスポットサイズの最適化と二重方向マークの使用により向上しています。さらに、レーザー光源は特定のリソグラフィ用途に合わせて調整することができます。レーザーはまた、高出力プレフラッシュとフラッドフラッシュ機能を備えており、被写界被覆深度を確保しています。CS-600のレジスト処理は、個別に制御された温度ゾーンと均一なベーキングプロセスで有効になります。高解像度マルチゾーンベーキングモジュールを使用すると、リソグラフィ性能が向上し、プロセスウィンドウが増加します。TEL/TOKYO ELECTRON CS-600は、レーザー投影アライメントと4ゾーンベーキングモジュールの組み合わせにより、大容量の集積回路を製造するための堅牢なレジストプロセスを提供します。内蔵の高度な露出制御方式により、TEL CS-600はさまざまな集積回路設計および製造プロセスの要件に容易に適応できます。ウェーハツーウェーハエッジのアライメントは、ツールの包括的なウェーハアライメント設計によって制御されます。補助センシングアセットにより、ダイツダイのアライメント精度が向上します。TOKYO ELECTRON CS-600はまた、品質管理とプロセス最適化を可能にする完全なプロセス制御環境を統合しています。これは、さまざまなリソグラフィーのパラメータとプロセス条件を監視するために使用される包括的な品質分析モデルを備えています。これらのデータは、リソグラフィープロセスのさらなる最適化に使用できる統計的プロセスモデルを開発するために使用されます。CS-600は、大容量の集積回路製造アプリケーション向けに高度に統合され最適化されたフォトレジスト装置です。それは現代リソグラフィが装備されており、処理技術に抵抗し、優れたリソグラフィ性能を提供します。高度な制御システムは、フォトリソグラフィープロセスが最適化され、品質を同時に維持できることを保証します。