中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672270 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II Photoresist Equipmentは、半導体ウェーハ処理に使用するための総合的なフォトリソグラフィーシステムです。このユニットは、精密なウェーハパターニングアプリケーションを可能にする多数の高性能コンポーネントを備えています。マシンの中核には、ウェーハ上のフォトレジスト層を高精度に露出させることができる汎用性と可能な照明ツールがあります。光源としてキセノンランプを使用し、複雑な投影アセットによりウェーハ上の微細な特徴を完全に解像し、ウェーハの反復可能な照明を可能にします。プロジェクションシリンダーやリレーレンズなどの光学部品を追加することで、実用的な半導体加工に必要な高い精度と再現性を実現します。Mark II Photoresistモデルは、装置のさまざまなコンポーネント間でウェーハを正確かつ再現可能に移動するために最適化された多軸ステージアセンブリも備えています。ステージは、3軸制御を駆動する高精度のDCサーボモータによって駆動されます。ステージの高剛性構造とロープロファイル設計により、低重心を実現し、システムのフットプリントを小さく保ちながら優れた運動制御とモーションコントロールを提供します。マークIIフォトレジストユニットには、精密なパターンをすべてのウエハに均一に作成できるよう、洗練されたキャリブレーションマシンが搭載されています。このキャリブレーションツールは、アセットの光学系を自動的に整列させ、フォトレジストの露出がウェーハ全体で均一で反復可能であることを保証します。Mark II Photoresistモデルは、操作とメンテナンスが簡単に行えるように設計されており、大量のウェーハ処理作業に最適なソリューションです。この機器には、ダウンタイムを最小限に抑え、システムの適切な動作を保証するための多数の診断ツールと組み込みのセーフガードが含まれています。また、ソフトウェアアップデートも利用でき、ユーザーは最新の改善のためにマシンを最新の状態に保つことができます。全体として、TEL Clean Track Mark II Photoresist Toolは、半導体ウェーハ処理アプリケーション向けの包括的で使いやすいソリューションです。精密照明アセット、多軸ステージアセンブリ、高度なキャリブレーションモデルにより、最高レベルの精度と再現性を実現し、ユーザーフレンドリーな設計により、機器の操作とメンテナンスが容易になります。