中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9392817 を販売中
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ID: 9392817
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Dual blocks
Coater: (3) Nozzles
Developer: E2 Nozzle
Wafer flow: Right to left (CSB Unit right side and interface station left side)
Tank auto switch off / Exchange missing
Block 1:
FC-9821Ke Controller
Stage / Indexer: SMIF / Cassette station
Cassette Station Arm (CSA)
Block 2:
Normal photo resist coater 2-1, 2-2:
(2) Photoresist dispense nozzles per coat unit
(2) Photoresist dispense nozzles and 2-RRC Resist pump per coater
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) for normal coater
Dual back rinse nozzle
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photoresist drain type: Direct gravity
Photoresist bottle: 2-Space
Photoresist auto exchange
Auto dummy dispense system
Cup type: PP Upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder
Block 3:
Developer 3-1, 3-2 Unit:
Single E2 nozzle
Dual top rinse nozzles
Back rinse nozzles
Developer temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity
Auto damper
Auto dummy dispense system
Cup type: Stainless steel for upper and PP for inner
(2) Low temperature ovens (LHP)
(4) Cool plate units
SHINWA Temperature and Humidity Controller (THC): 2-CUP
External chemical supply system:
Section-1: Solvent supply system
Solvent chemical type:
Chemical Center Supply System (CCSS)
With (2) of 3-litres teflon buffer tank
Type: (2) Buffer tanks (3litre/Tank, teflon) (2) Coaters
Tank auto switch off / Exchange
Section 2: Develop:
Develop chemical type
Chemical Center Supply System (CCSS)
With (2) of 3-litres teflon buffer tank to cover (2) DEV Units
Tank auto switch-off / Exchange
HMDS Supply system for 2 AD Unit:
Chemical type
1/4-Gal bottle
With 1L Buffer tank per ADH
SMC Multi controller: Rear mail body
Power transformer AC cabinet : 208 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz
ASML
(6) Hot transfer plates: HP3-4 / HP3-5 / HP 3-7 / HP 3-8 / HP2-4 / HP 2-8
(5) Cold transfer plates: COL2-9 / COL2-10 / COL3-6 / COL3-9 / COL3-10
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
CSB Unit:
X, Y, Z Theta motor
Y, Z Motor driver
FFU
COAT 2-1:
EBR Cylinder
Spin chuck
RRC Pump
Spin motor driver
Spin connection board
VAC Sensor
(4) Solenoid valves
COAT 2-2:
EBR Cylinder
Spin chuck
RRC Pump
Spin motor driver
VAC Sensor
(11) Solenoid valves
DEV 3-1:
DEV Spin motor and driver
DI Rinse arm cylinder
Spin unit base assembly
DEV Cup
Spin chuck
Spin connection board
Solenoid valve mainfold
VAC Sensor
D.I Rinse flow meter
(4) Flow meter sensors
DEV 3-2:
DEV Spin motor and driver
DI Rinse arm cylinder
Spin unit base assembly
DEV Cup
Spin chuck
Spin connection board
VAC Sensor
IFB:
Arm assembly
(2) Trabot arms for ASML
Y, Z Motor driver
2-Block system:
FFU
Main arm assembly
Y, Z Motor driver
SIMF Card
TVME Card
(2) AD Units
HP Unit
Circulator pump
(10) DC Power fuses
3-Block system:
FFU
Main arm assembly
Y-Z Motor driver
TVME Card
(2) CP Units
(2) CPL Powers
(3) HP Units
Circulator pump
(10) DC Power fuses
WEE Lamp house
(2) Temperature and humidity controllers
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8は、TELが開発・製造する先端半導体デバイス製造用の自動フォトレジスト装置です。一貫した高品質な生産プロセスを提供する統合されたハイスループットシステムであり、スピードと精度の両方を向上させます。このユニットには、粒子発生を最小限に抑え、残留物を最小限に抑えるように設計された、堅牢で効率的な洗浄およびコーティング技術が装備されています。機械の中心はウェーハを所定の位置に保持し、製造プロセスの間に再現性を保障するように設計されているクリーントラックの部屋です。チャンバーは、高度なチャンバークリーニング技術とプラズマ処理、ケミカルクリーニング、高度なコーティング技術を組み合わせて、粒子やその他の残留物を低減します。Mark 8ツールには、自動基板の転送と処理、自動レシピアセット、自動基板検証、処理される各基板の自動データロギングなど、さまざまな自動機能が搭載されています。このモデルは、さまざまな基板サイズ、基板タイプ、形状を高精度で処理することができます。また、フォトレジスト材料の最適なコーティングとスプレーを容易にする高度なノズル設計を備えています。さらに、高度な粒子検出システムを搭載しており、高レベルの粒子やその他の残留物が処理されないようにしています。TEL Clean Track Mark 8は、さまざまな先進的なデバイス製造プロセスに適した、低コストで高品質なフォトレジスト加工ソリューションを提供します。モジュール設計とコンポーネントにより、汎用性と費用対効果が向上します。高度なガス流量と湿度制御によりフォトレジストコーティングに最適な環境を提供し、自動基板処理により汚染を最小限に抑えます。また、基板処理のバリエーションを追跡し、リアルタイムデータを記録することで、プロセスの最適化を可能にします。
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