中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9165442 を販売中
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ID: 9165442
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Open cassette
Interface for NIKON NSR 2205 EX14C
Silicon substrate wafer
Wafer flow: Left to right
CSB Unit at right
Interface station unit at left
(2) Process blocks: Single block system
Cassette station block (CSB):
FC-9821KE Controller
Stage / Indexer:
Non SMIF / Open uni-cassette
Cassette station (CS)
Cassette station arm (CSA)
Process station block (Spin units):
2-1 Standard photo resist coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Auto dummy dispense system installed
Photo resist bottle: (6) External chemical supply system
2-2 Anti-reflection coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows photo resist pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Auto dummy dispense system installed
Photo resist bottle: (6) External chemical supply system
2-3 and 2-4 Develop units:
(4) Stream nozzle blocks
(4) Stream nozzles
(2) Rinse nozzles: Stream type
Dual back rinse nozzles
Develop temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispense system
Process block robotics arm (PRA)
Adhesion unit
(10) Hot plate oven units
(2) Air-purge hot plate (AHP) oven units
(7) Cool plate units
Wafer edge exposure (WEE) unit
Interface station block (IFB):
Interface arm (IFA)
(2) Buffers
Pick-up system
Interface cool
Extension stage
Wafer stage
Temperature and humidity controller:
SHINWA T&H-CPC
2-Cup control capacity for (2) Coat units
External chemical supply system:
Solvent supply system for (2-1) COT and (2-2) ARC:
Solvent chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With (2) 3-Liter teflon buffer tanks
Develop supply system for 2-3 and 2-4 Develop units:
Develop solution chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With (2) 3-Liter teflon buffer tanks
(2) Photo resist supply systems:
6-Bottles of manual supply type
Auto switch-off / Exchange installed
HMDS Supply system:
HMDS Chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With 3-Liter teflon buffer tanks for AD unit
External chemical supply system / Cabinet: (2) SMC Multi thermo controller units
SMC Circulator pumps and thermo controller
With 7-Channels:
2-1 COT
2-2 ARC
Motor flanges: 2-1 COT and 2-2 ARC
2-8 COL
2-12 COL
2-16 COL
2-19 COL
SMC Circulator pumps and thermo controller
With 7-Channels:
1 and 3 Stream nozzle blocks: 2-3
2 and 4 Stream nozzle blocks: 2-4
(2) Motor flanges at 2-3 and 2-4 DEV
2-20 COL
2-23 COL
2-24 COL
3-4 I/F COL
(3) Robots:
CS Arm
Main arm robots
Interface arm
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8は、現在の超高信頼性と高精度回路板の要求を満たすために開発されたフォトレジストシステムです。Mark 8は、高度な超音波コンタクトクレンジング（UCC）法を採用し、2段階の「エアブロークリーニングとスイープクリーニング」プロセスを備えています。エアブロークリーニングプロセスは、高速空気の流れを使用して、ほこり、汚れを除去し、特定のサイズまで汚染します。それは基質に損傷か圧力を与えないで表面をきれいにするために強制空気の流れを利用します。スイープクリーニングプロセスは、回転ブラシを使用した往復クリーニング方法を採用しています。これにより、エアブロークリーニングプロセスの後に残っている小さな汚染物質が除去されます。Mark 8には、パフォーマンスと出力を向上させるためのいくつかの追加機能も組み込まれています。特定密度クリーナー（SDC）、欠陥検査用CCDカメラ、ボードおよびチャンバーの温度制御、ハードウェアおよびソフトウェアのアラーム監視、志村/Kitta欠陥検査、自動化学レベル制御、およびロール/ベルトタイプのチップ。Mark 8は、カスタマイズ可能な基板ベースステージを備えた柔軟性のさらなるレベルを備えており、高および低ひずみセンサ基板、ならびに標準化および非標準化基板の両方を処理することができます。さらに、高感度センサーを工具に組み込むことで、加工中の粒子汚染の可能性を低減し、性能を向上させます。高精度の回路基板の時代、TEL Clean Track Mark 8フォトレジストシステムは、お客様のニーズに合わせた性能と信頼性を提供します。先進的なUCC機能といくつかの追加機能を組み合わせることで、お客様に一貫してクリーンで高品質な基板を提供します。Mark 8の汎用性と高度な機能により、最も要求の厳しい要件を満たすように設計されており、卓越したパフォーマンスを保証します。
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