中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9158015 を販売中
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ID: 9158015
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
Dual block
Silicon substrate wafer
Wafer flow: Right to left
CSB Unit at right
Interface station unit at left
(2) Process blocks:
Cassette station block (CSB):
FC-9801F Controller
Stage / Indexer:
Non SMIF / Open uni-cassette
Cassette station (CS)
Cassette station arm (CSA)
PSB / Process station block (Spin units):
2-1 Standard photo resist coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
(6) Photo resist bottles in external chemical supply systems
Photo resist auto exchange
Auto dummy dispense system
2-2 Bottom layer coat (BCT) unit:
(3) Bottom layer coat (BCT) dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows photo resist pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzle
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle: (6) External photo resist supply system
Photo resist auto exchange
Auto dummy dispense system
Process block robotics arm (PRA)
Adhesion unit (AD)
(5) Hot plate oven units
(2) Dehydration hot plate (DHP) oven units
(2) Cool plate units
Process station block (Spin units):
3-2, 3-3, 3-4 Develop units:
(4) Stream nozzles at (4) Stream nozzle blocks
Rinse nozzles:
(2) Stream type
Spray type
Dual back rinse nozzles
Develop temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispense system
Process block robotics (PRA) Arm
Adhesion unit
(3) Hot plate oven units
Dehydration hot plate (DHP) oven unit
(3) Air-purge hot plate (AHP) oven units
(3) Cool plate units
Extension unit
Wafer edge exposure (WEE) unit
Interface station block (IFB):
Interface arm (IFA)
Interface for ASML PAS Series Stepper
(2) Buffers
Pick-up system
Interface cool
Extension stage
Wafer stage
Temperature and humidity controller:
TEAM KOREA TK-TH8T4
2-Cup control capacity for 2 Coat units
External chemical supply system:
Solvent supply system:
Solvent chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system
With (2) Buffer tanks: Auto switch-off / Exchange
Develop supply system:
Develop solution chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system
With (2) Buffer tanks: Auto switch-off / Exchange
Photo resist supply system for 2-1 Coat and 2-2 BCT
6-Bottles of manual supply type
Auto exchange system
HMDS Supply system:
HMDS Chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system with bubbling jar
HMDS Supply system
Themo controller:
External chemical supply system: (2) TEL / TOKYO ELECTRON SMC Multi controller
MAX 16 Channel capacity: 12-Channels for (2) Process
SMC Multi thermo controllers:
(6) SMC Circulators: Chilling channels
2-1 COT Unit
2-2 BCT Unit
Stream nozzle block:
Block 1 and 3: 3-2, 3-3 DEV
Block 2 and 4: 3-4 DEV
(5) Motor flanges
(6) SMC Thermo controllers: Chilling channels
2-9 COL
2-10 COL
3-7 COL
3-11 COL
3-15 COL
4-4 I/F COL
(4) Robots:
CS Arm
(2) Main arm robots
Interface arm
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
TEL （TOKYO ELECTRON） TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8は、回路基板の製造に使用されるフォトレジスト機器です。このシステムは、スピンコーティング、ソフトベーキング、マスクアライニング、スプレーコーティング、ハードベーキングなど、さまざまなフォトレジストプロセスが可能です。クリーントラックは、高い収率を生み出すのに役立つ再現性と正確な結果を可能にします。TELクリーントラックマーク8は、クリーンルームのダウンタイムを削減し、生産性を向上させるために設計されています。耐久性と信頼性に優れた帯電防止シャーシと、アライメント時間を半分に短縮する「no-ccd」アライニングユニットを備えています。さらに、タッチパネル液晶ディスプレイを搭載しているため、工具の操作が容易になります。この資産には、清潔性とプロセス精度を向上させるための2つのユニークで高度なベーキング技術が含まれています。1つ目は、コンタミネーションのリスクを低減し、温度安定性を最適化するために、ベーキングプロセスを2つの部分に分離するスプリットベークです。2つ目は、基板をタスクに分離することなくウェーハを完全に焼くことができるハイブリッドベークです。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8は、レジスト残留物をすばやく除去できる特殊設計のノズルとクリーナーを使用しており、クリーナーウエハが発生し、化学廃棄物が大幅に削減されます。特殊なコーティング機能により、化学的使用量と洗浄時間を70％削減し、セラミックヘッドノズルは全粒子カウントを削減し、高精度のコンタクトレストラッキングはアライメント精度を向上させます。さらに、このモデルは後付け可能であり、さまざまなフォトレジストシステムとの互換性を可能にします。全体として、Clean Track Mark 8は高度な技術を使用して、ユーザーは化学物質、エネルギー、ダウンタイムを最小限に抑えながら、繰り返し可能で最高の結果を得ることができます。これは、効率的かつ効果的なフォトレジスト機器であるように設計されており、ユーザーはコスト効率の高い生産を維持しながら最大の収量を達成するのに役立ちます。
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