中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9196447 を販売中
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ID: 9196447
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1992
Coater / Developers system, 6"
System: Left to right for 8" wafer
Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cassette)
Configuration:
Main body 1
IF
Chemical cabinet 1 & 2
THC
PC Rack
Main controller: NEC FC-9801X
C/S Robot type: Vacuum arm / Ceramic pincette
Main robot type: 3-Pincette arm
Indexer: Laser diode mapping sensor
SCR: JET Nozzle / Rinse nozzle
Coat:
(4) Resist nozzles
Bellows pump 1 gallon resist bottle
Thinner local supply (Canister)
EBR Nozzle
Back rinse nozzle
Local drain (1ST SUS 10L Tank / Drain pump)
DEV:
Nozzle type:
E2 Nozzle
Rinse nozzle
Back rinse nozzle
local supply
Facility drain
WEE: UL-200T-L1 UV Light source
AD: Local supply
Currently warehoused
1992 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (CTM-7)は、半導体産業の製造・構築プロセスに使用されるフォトレジスト機器です。フォトリソグラフィ、ウェットおよびドライエッチング、およびその他のフォトニックプロセスなど、さまざまな用途に使用されます。このCTM-7は、最大0。25マイクロメートルの高精度な機能サイズを備えた、大規模で複雑なウェーハ用に設計されています。スループット率が高く、他のフォトレジストシステムと比較して非常に効率的です。CTM-7は、間接レーザー投影光学系と直接レーザー投影光学系を組み合わせて、フォトレジスト層をウェーハ基板上に正確に配置します。フォトレジストは静電力でEPCローラー上に保持され、+/-1micronのセンタリング精度で正確に配置できます。フォトレジスト層は、ジョブの事前定義されたパラメータに従って高精度ディスペンサーによって分配されます。その後、フォトレジスト層のレーザービームが基板を露出します。露出した基板は、ジョブパラメータに従って定義された深さにエッチングされます。また、CTM-7には高度な真空処理システムがあり、ウェーハの最適なアライメントとハンドリングが可能です。エッチング完了後、ウェーハを絶縁浴で洗浄・洗浄した後、自動的にスピンドライヤーに読み込んで乾燥させます。スピンドライヤーはサイクルタイムを改善し、ウェーハの清潔さを高めます。また、CTM-7には自動ウェーハ検査ユニットが付属しており、ウェーハ表面の欠陥を迅速かつ正確に検査することができます。さらに、画像処理を使用してプロセスステップをリアルタイムで監視し、それに応じてパラメータを自動的に調整する高度なプロセスモニタリングマシンが装備されています。これにより、フォトリソグラフィ、エッチング、クリーニングプロセスがすべて最適な品質レベルで行われることが保証されます。結論として、TEL Clean Track Mark 7は信頼性が高く効率的なフォトレジストツールで、高性能と高精度、サイクルタイムの向上を実現します。真空処理資産やプロセス監視モデルなどの高度な機能により、プロセスが最高水準の品質と精度で完了することができます。
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