中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9158020 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7は、最新の半導体製造・加工ニーズに応えるフォトレジストシステムです。この装置は機能および性能の優秀な範囲を提供する高度の特徴を提供します。TEL Clean Track Mark 7は、フォトレジスト層などの基板のパターニングを改善するDirect-Drive Maskless Exposure （DME）技術を使用しています。この技術により、光学システムは、フォトマスクを使用する代わりに、CAD （Computer-Aided Design）データに従って基板を露出します。この方法は、マスクを作るための追加のクリーンルームの必要性を排除し、時間とお金を節約します。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7には、Active Pattern Precision （APP）チューニング機能も搭載しています。この機能により、LWR（線幅粗度）などの高解像度ディテールが最も重要なフォトレジスト層のパターニング制御が向上します。APPは5nm以内のLWRを維持するのに役立ち、精度のレベルが必要なプロセスに最適です。DMEとAPPに加えて、Clean Track Mark 7には基板移動ユニットが含まれています。これにより、基板をX、 Y、 Z方向に移動させ、傾斜方向を最大30度のオフセットにすることができます。この機械は多数の基質のサイズおよび形を可能にし、すべての調節および整列は時間およびお金を節約してすぐにそして正確にすることができます。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7も最新鋭のクリーニング機能を備えています。このツールは、特許取得済みのAerosprayクリーニング操作を使用しており、フォトレジストを洗浄しながら粒子散乱を低減するのに役立ちます。また、DIのような水を使用した独自のウェットクリーニングプロセスを提供し、強力な化学物質による表面腐食を最小限に抑えることができます。TEL Clean Track Mark 7には、CADソースデータから各ダイの長さ、幅、面積を測定することで、アライメントの精度を最大化するための事前アセットも装備されています。このモデルはまた、金型配置時に必要な手作業の量を削減し、手動検査と最適化の必要性を低減するのに役立ちます。東京電機クリーントラックマーク7装置は、フォトレジストシステムにおける半導体業界の最高性能と最先端の機能を提供します。ダイレクトドライブマスクレス露光技術、アクティブパターン精密チューニング機能、基板ムーブメントシステム、および洗浄機能の範囲は、迅速なセットアップと操作で優れた精度を提供します。