中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293641936 を販売中
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ID: 293641936
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7は、高度なマイクロエレクトロニクス機器の製造を目的としたフォトレジスト機器です。このシステムは、高精度のビームフォーカスとアライメントユニットチャンバーを備えており、作業者は原子レベルでジョブバイジョブ処理を行うことができます。TELクリーントラックマーク7は、アライメントチャンバーと基板加工ステージの2段階で構成されています。アライメントチャンバーは、ビームを整列させるために使用される2つのレンズを備えたビーム偏向マシンを備えているため、処理される基板上の正確なスポットに光を集中させます。これにより、各ジョブの高精度で再現性の高い結果が保証されます。基板加工段階は、さまざまなガスを充填した真空チャンバーで構成されており、有害な粒子や潜在的に基板を汚染する可能性のある空気中の汚染物質をきれいにして除去します。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7は、制御ソフトウェアの助けを借りて1µmの解像度を達成することができます。これは調節可能であり、異なったプロセスを満たすために調整することができます。このツールはまた、ビームの焦点、サイズ、形状を調整するために使用できる高度な機能の範囲を持っています。これにより、ユーザーは非常に短い時間と非常に高い精度でプロセスを最適化することができます。さらに、Clean Track Mark 7アセットは、特許出願中の革新的な照射法を採用しており、信号強度と信号均質性を向上させます。これにより、表面の欠陥を低減し、デバイスの解像度を向上させ、一貫した高品質のウェーハエッチングを保証します。また、オンウェーハエッチテスト、フォトレジストクリーニングテスト、Eビームシミュレーション、自動レシピコントロールなど、さまざまな診断ツールを備えています。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7は、最高品質のウェハエッチングとフォトマスク処理を提供するために設計された先進的なフォトレジスト機器です。高解像度、制御ソフトウェア、さまざまな高度な機能により、作業者は高精度を必要とする作業を確実かつ正確に行うことができます。
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