中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293632604 を販売中
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ID: 293632604
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Single block
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7フォトレジスト装置は、ハイエンド電子製品の製造に使用されるフォトリソグラフィのハイエンド技術です。半導体集積回路（IC）やプリント基板（PCB）の製造に広く使用されています。TEL Clean Track Mark 7システムは、フォトマスクのクリーンで効率的な生産を保証する最先端の機能を提供します。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7は、マルチゾーン、マルチパターン露光プロセス、反射防止コーティングなどの高度な機能を提供します。これは単位と作り出されるフォトマスクをより精密、予測可能および一貫したようにします。また、ハイエンドの「スーパー・フィールド」技術を採用しており、単一のヘッド露光ツールで可能な限り最大のフィールドで最高の均一な照明を提供します。これにより、フォトマスク全体の正確で均一な露出が保証されます。「スーパー・フィールド」技術は、ポスト・エクスポージャー・ベーク（PEB）ソリューションなどの他の用途にも直接ウェーハ露出を可能にします。このアセットには、ホストシステムとの通信のためのデータ転送モデルも組み込まれています。この機能は、機器からのデータの迅速なダウンロードと分析を可能にします。クリーントラックマーク7フォトレジストシステムには、温度制御やシャッターアクチュエーションなどの高度なオートメーション機能もあります。これにより、露光時間を正確かつ正確に制御でき、露光プロセス全体で製品を正確に追跡できます。このオートメーション機能は、フォトリソグラフィ生産に関連するオーバーヘッドコストを低減するために不可欠です。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7フォトレジストユニットは、高度な保護機能も備えています。これらには、振動絶縁機、静的/動的保護、エアフィルトレーション、フォルト絶縁が含まれます。これらの機能により、露光プロセス中にツールのコンポーネントをより大きな保護でき、アセットが良好な動作条件に維持されます。全体として、TEL Clean Track Mark 7フォトレジストモデルは、高精度で信頼性の高いフォトマスクを製造するための貴重な技術です。複雑な回路の効率的な生産を可能にする高度な機能とオートメーション機能を提供します。この装置は、半導体およびPCB業界での使用に適しています。
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