中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375518 を販売中
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ID: 9375518
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
System, 12"
Multi block
(4) FOUP (25 wafers)
Left to right
High speed IBFM
(4) Coat modules
RGEN02 Pumps (4ml type)
(7) Resist nozzles
Resist temp control
Top side EBR
RRC PRE Wet
(4) Develop modules
SH Nozzle
Top side rinse
Develop temp control
(2) ADH
(4) HCP (High speed CPL)
(4) Low Hot Plate (LHP)
(9) Chilling High Precision Hot Plate (CPHP)
(2) Water Chilling Plate (WCPL)
IHCP
Cup Wash Holder (CWH)
BWEE
(2) TRS
(2) Cup T&H Control units
Chemical box
ASML Interface
HDD Not included
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusは、高度な半導体リソグラフィープロセス用に設計されたフォトレジスト装置です。業界初の「NO HOOD」システムで、性能を損なうことなくクリーンルーム空間を最大化します。本装置は、独自の真空チャック技術を採用し、非接触型ウェーハのホールド性とアライメント精度の向上を実現しています。TEL Clean Track Lithiusは、フルSAEDステップとリピート、3Dステッチ、オーバーレイアライメントアライナーをサポートします。また、パーティクル数を削減するためのマルチプロジェクトウェハハンドリング機能の向上、およびアライナーのデッドタイムの排除も提供します。さらに、このマシンは、ロードとアンロードのサイクル時間を大幅に削減します。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusは、リソグラフィーパターニングのための様々なフォトレジストをサポートしています。ディープサブミクロン(DSM)は0。25ミクロン以上の解像度で抵抗するほか、高アスペクト比(HAR)レジスト、サブミクロン分解能を持つ熱互換性レジスト(TCR)などがあります。レジストが選択されると、Clean Track Lithiusはプロセスのユニークな統合計画を作成します。このプランは、独自のフォトレジスト製剤データベースと連携して、各レイヤーに最適なジョブレシピを作成します。また、in-situプラズマポストベークとの相関や、ウェーハとウェーハの再現性を最大限に高めるダイレクトハンドルウェーハ配送にも対応しています。最後に、統合されたソーター機能を使用してパターンマッチングを改善します。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusはバッチと連続の両方のプロセスを管理できます。複数のレイヤーを1つのジョブに統合して、イメージの継続性を向上させることもできます。最後に、このツールは組み込みのプロセス監視とウェーハ品質管理を提供し、一貫性のある反復可能な結果を保証します。TEL Clean Track Lithiusは、高度な半導体リソグラフィープロセス向けの信頼性の高い使いやすいソリューションです。独自の真空チャック技術、組み込みプロセス監視機能、包括的な統合計画により、精密パターニングニーズに最適です。
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