中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267953 を販売中
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販売された
ID: 9267953
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
(2) Coater / (3) Developer system, 12"
Mainframe with controller
(4) FOUPS and Carrier station
SHINWA T&H-ME-1-1AZAZAZ-01 Temperature and humidity controller
SMC INR-244-260A-2 Temperature Controller Unit (TCU)
Coater unit (2-1, 2-2):
(10) Dispense nozzles
With temperature controlled line: HPT 106-2 Pump
PR Suck-back valve type: (20) AMC Suck-back valve
Degasing system for solvent (PCS Pumps)
Programmable side rinse:
PR Nozzle: (10) Bottles
Solvent 1 supply: CCSS
Solvent 2 supply: Local canister tank 1 and 2
Photo resist temperature control system
Direct drain type
Developer unit:
NLD Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
Degasing system for developer (PCS Pumps)
Developer supply: CCSS
DIW Supply: CCSS
Developer temperature control system
Direct drain type
Chemical cabinets:
COAT Cabinet
2-DEV Cabinets
AC Power box: 200 / 220 V
Full-load current: 152 Amps
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Trackフォトレジスト製造用に設計された最先端の半導体ウェーハ加工装置です。高度な洗浄工程と高精度フォトレジスト蒸着装置を組み合わせ、高品質な製品をオンデマンドで生産します。TEL Clean Track Lithiusは、洗浄段階と蒸着段階の間にウェーハを移動させるロボットアームを備えています。機械の統合された洗浄プロセスは、純水添加物と酸素を使用して、有機および無機の汚染物質を含まない完全にきれいなウェーハを提供します。蒸着工具は、ウエハー表面に熱蒸発し凝縮する超高密度プラズマ強化蒸着ガンで構成され、フォトレジストパターンの優れた均一性と再現性を発揮します。アセットは、プロセスチャンバーの上下に2つの独立したコンベアトラックで構成され、ウェーハを管理し、1時間あたり最大300 200mmのウェーハを処理できます。独自の「TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius」ソフトウェアスイートは、ウェーハ加工時のモデルパラメータを完全に制御し、レシピの保存や変更を即座に行うことができます。ハードウェアとソフトウェアを通じて、ウェーハ表面全体にわたって+/-0.9µmの堆積均一性を達成することができます。このシステムには、プロセスの異常をリアルタイムで検出および修正する自動診断機能が装備されています。優れたプロセス制御機能に加えて、Clean Track Lithiusは汚染や操作ミスからユニットを保護するさまざまな安全機能も備えています。機械はプロセス部屋への粒子の漏出を最小にするために多数の金属の反汚染のバッフルおよび空気カーテンと合います。また、多重化された入口ポンピングアーキテクチャを使用して、プロセスで使用されるガスがウェーハに危険な炭化水素から解放されていることを確認します。最後に、このツールにはツール固有の安全回路チェックが装備されており、アセットが適切に動作するようにしています。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusは、高精度フォトレジスト成膜に最適なツールです。24時間365日の運用を想定して設計されており、現在は世界中の様々な研究室や生産施設に設置されています。このモデルは非常に効率的で、長年にわたり信頼性の高い運用のために設計されており、ユーザーはフォトレジストを迅速に処理し、ウェーハの歩留まりと収益性を向上させることができます。
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