中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267420 を販売中
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ID: 9267420
ウェーハサイズ: 12"
System, 12"
Cassette stage block
SMC Thermo-Con block
Plate stacks
Coat develop module
AC Power box
Miscellaneous panels.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusは、リソグラフィ工程のサイズと複雑さを軽減し、クリーニング工程の清潔度と生産性を向上させるフォトレジスト機器です。TEL Clean Track Lithiusシステムは、マスキング/エッチングおよびクリーニング技術のためのモジュラースタイルの技術ソリューションです。量産と数量限定加工の両方に適しています。超短波長光源を搭載し、フォトマスクの高解像度パターニングと洗浄性能の向上を実現しています。また、高解像度のマスク/配置パターンを開発し、パターンの最小ピッチを低減することができます。パターンレイアウトは、低次元パターン（2〜4色）を使用して最適化されています。フォトレジスト層は、従来のレジスト加工技術と比較して、スループットを向上させ、複雑さを低減する1ステップで適用されます。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusは、高度な洗浄機をパターニングプロセスに組み込んでいます。このクリーニングツールは、ウェットケミカルとドライパーティクルクリーニングプロセスの両方を組み合わせています。ウェットエッチングプロセスは、高圧（1。7〜3。5mPa）の化学溶液を使用して、基板からフォトレジスト材料を除去します。乾燥粒子洗浄プロセスは、基板から残りのフォトレジストを除去するために、さまざまなサイズの粒子を使用します。2つの洗浄プロセスを組み合わせることで、より高いスループットとよりクリーンなフォトレジストパターニングが可能になります。Clean Track Lithiusは、検査とプロセス監視のためのインラインモニタリングアセットも提供しています。モデルは抵抗材料の光強度を測定し、適用された光強度を使用して、光強度が許容範囲外にある場合に警告信号を生成します。この装置は、加工基板の清浄度を測定するためにも使用でき、エンジニアはフォトレジスト塗布プロセスの前に洗浄欠陥を特定することができます。さらに、TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithiusには、インテリジェントなケースハンドリング（ICH）が組み込まれており、素早く正確なパターン配置が可能です。ICHは多軸ポジショニングアナライザを使用して、パターニング中の基板の正確な位置を特定します。結果として得られるパターン配置は均一で正確であり、より高い歩留まりとより高いプロセス安定性を可能にします。結論として、TEL Clean Track Lithiusフォトレジストシステムは、フォトマスクとエッチングパターニングのための高度で高度な技術ソリューションです。ユニットは、同時に、洗浄プロセスの清潔性と生産性を向上させながら、リトグラフィープロセスのサイズと複雑さを軽減するように設計されています。全体的な結果は、歩留まりの改善、スループットの向上、均一性の向上、プロセスの安定性の向上です。
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