中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #293595689 を販売中
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ID: 293595689
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
Coater / Developer system, 12"
In-line with CANON ES6
(4) Loaders
TEL Photoresist processing system
FOUP Carrier station: 4 Side loading
(2) Process station blocks
Wafer edge with inline thickness measurement system
CAR Capable
DEV Solution supply system
FIRM Supply system
NH3 Monitor ports specification
CANON Interface station
Online communication (GJG)
S2-0302 Safety compliance
(3) P.Resist coater units
(2) BARC Resist coater units
(5) Developer units
LD Nozzle
(3) Adhesion process units
(6) Chill Plates (CPL)
(2) Water Controlled Chilling Plates (WCPL)
(5) Chilling Low Temperature Hot Plates (CLHP)
(10) Chilling High Precision Hot Plates (CPHP)
(2) External chemical cabinets
T and H controller cup
AC Power box
HPT Pump:
(4) Nozzles per cup
(6) Nozzles per cup
Direct drain:
COT
BCT
DEV
Solvent supply system:
COT
BCT Unit
Power supply: 208 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track半導体製造における集積回路の生産性向上を目的としたフォトレジスト装置です。システムは、2つのコンポーネントで構成されています、タンデムで使用すると、よりクリーンでより正確なマイクロサーキットの開発を可能にします。ユニットはLithiusクリーニングエージェントとClean Trackチャンバーで構成されており、両方のコンポーネントはTELによって設計されています。Lithius洗浄剤は、溶剤を使用してウェーハ表面の不純物や残留物を除去します。これにより、ウェーハ上のフォトレジストのクリーンで正確な処理が可能になります。洗浄剤を塗布すると、汚染物質と結合し、単一の塗布で除去します。Lithiusは多種多様な残留物を洗浄することができますが、東京エレクトロンが開発したものを含め、ほとんどのフォトレジストシステムでの使用に適しています。クリーントラックチャンバーは、ユニークなウェーハホルダーを備えた密閉チャンバーです。密閉されたスペースのホールダーにウェーハを配置し、Lithius洗浄剤を導入するために使用されます。その後、ウエハは紫外線にさらされ、リソグラフィーフォトレジストマシンのクリーンアッププロセスを触媒します。これは、開発プロセスを妨げる可能性のある、ほこりや湿度などの環境汚染を防ぐ、閉じた空間で行われます。Lithius洗浄剤とClean Trackチャンバーを組み合わせることで、詳細な構造物を安全かつ効率的にウェーハに厳格化することができます。これにより、集積回路を製造する際の統合と精度が向上し、歩留まりとスループット率が向上します。結論として、TEL Clean Track Lithiusは、集積回路の製造に最適な効果的で高効率なフォトレジストツールです。クリーントラックチャンバーの本質的にきれいな環境と迅速なクリーンアップ溶媒により、詳細かつ正確な構造処理が可能になり、幅広い用途において歩留まりとスループット率が向上します。
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