中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #9218786 を販売中

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ID: 9218786
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Coater / Developer system, 12" Multi block Track config 1: (3) Coat cups (3) Barc cups (3) Top coat cups (6) Developer cups (3) CADH Track config 2: Resist reduction: SRRC Dev nozzle1: GP Dev nozzle2: LD Resist pump: CRD 3ml Bevel rinse: Ver 2 Oven config: PEB: (4) CPHP BCT: (5) CGHA COT: (4) CGHP ITC: (4) CGHA Post bake: (4) CLHA Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73, LA95 FIRM: SPC-116A Block diagrams 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Proは、幅広い基板に対して高度に制御され精密なフォトリソグラフィープロセスを行うために設計された先進的なフォトレジスト装置です。フォトリソグラフィー(photomask technology)は、光を用いて2つの別々の材料の間でパターンを伝達する方法である。Lithius Proは、光や化学物質に対する感度が高いため、幅広いフォトマスキング用途に優れた精度を提供することができます。SynchroScanとAsyncScanフォトマスクの両方の技術を使用して、高速マスク構造の同時スキャンと処理機能を提供するシステムです。Lithius Proは、ポジティブ、ネガティブ、スピンコーティングなど、さまざまなフォトレジスト材料で使用するために設計されています。フォトレジスト(Photoresist)とは、シリコンウェーハ基板などの基板に印加し、その素材のパターンを形成する感光材料のフィルムである。AsyncScanとSynchroScanフォトマスク技術を組み合わせたLithius Proは、最適なパターンメンテナンスと高いアスペクト比の精度を提供します。このユニットは、フォトマスクやフォトレジスト用に設計された、ダイナミックスキャン速度制御機、自動トーン調整、正確なフォーカス検出ツールなどの高度な機能を備えています。Lithius Proは、キャリブレーションウィザードなどのプログラムを内蔵した簡単で正確なセットアップ手順を提供し、アライメントとキャリブレーションを簡素化して最大限の精度と再現性を実現します。また、クリーニングモードを掃除する真空クランプ、グリース、ほこり、その他の汚染を除去するための可変温度クリーンモードなど、多くの標準および特別なクリーニングプロトコルも提供します。内蔵の検査機能により、再現性と均一な検査結果を得ることができます。これらの機能により、Lithius Proは精密フォトマスクおよびフォトレジストアプリケーションのための強力なツールとなります。これは、反復可能な結果を持つ基板の広い範囲にわたって複雑なパターンを実行することができます。このアセットは簡単にインストールできるように設計されており、直感的な制御と幅広い生産性と安全機能を提供しているため、フォトリソグラフィーシステムから高精度と効率を必要とする人に最適です。
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