中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9382447 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、半導体製造業界で使用される高精度の超微細パターン形成に使用される最先端のフォトレジストエッチングプロセス装置です。その主な特徴は、ウェーハ表面を同じチャンバー内で2種類のレーザー光で処理する高度な「Act In/Out」システムで、シングルインジェストプロセスと比較してエッチングの均一性を向上させることです。TELクリーントラックACT 8ユニットは、2段エッチング方式を採用しています。まず、pumpless light-restricted depyrogenation （LRD）プロセスは、焦点レーザー光を使用してウェーハ表面に堆積した不純物を蒸発させます。2番目に、低消費電力のパススルーレーザーを使用して、フォトレジストを1つのパスに堆積させます。この2段階プロセスは、非常に薄く均一なフォトレジストパターンを生成し、ウェット処理を必要とせずに高度に制御されたエッジプロファイルを生成します。また、高精度なインデックスを備えているため、エッチング処理に不可欠な忠実度の高いフォトレジスト配置が可能です。これは、精密ステージのモーションコントロールと統合されたパターン認識アルゴリズムの使用によって可能になります。このツールはまた、特許取得済みの「アダプティブ照明パターン」を採用しており、光の強度がウェーハ全体で常に均一であることを保証し「、ミラーアンドガラス」光学系はレーザーを一貫して集中させ、極端な温度でも画像解像度を維持します。さらに、このアセットは最適化されたフォトレジストエッチング処理を備えています。単一のアプリケータではなく、デュアルシミュレーザワークステーションを使用して、最大の均一性と高解像度のイメージングを実現します。最後に、TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8には、精密なエッチングと優れた歩留まりのためのすべてのパラメータとプロセスを追跡する洗練されたソフトウェアが搭載されています。要するに、Clean Track ACT 8は、高精度なパターン形成と超微細なエッジを実現するために設計された次世代フォトレジストエッチングプロセスモデルです。汚染物質を蒸発させ、フォトレジストをワンパスで適用する2段階のプロセスを利用し、高度なレーザー光操作システム、独自の「適応照明パターン」、エッチング処理を正確に制御する強力なソフトウェアプラットフォームを備えています。