中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9281143 を販売中
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販売された
ID: 9281143
System, 8"
Main controller
Process type: DUV, Arf, Krf
Cassette block: 4-Stage
Process block: Dual block
Interface block: WEE
SHU
IRA
Spinner units:
Unit / Nozzle quantity / Pump / Nozzle type
2-1 COT / (3) / RRC
2-2 COT / (3) / RRC
3-1 DEV / (1) / H Nozzle
3-2 DEV / (1) / H Nozzle
3-3 DEV / (1) / H Nozzle
Bake units:
(8) CPL
(4) CHP
(12) LHP
(2) ADH
(4) TRS
(2) HHP
Chemical supply:
Thinner chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Dev solution supply: CCSS, (2) Buffer tanks
HMDS Chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Coat drain type: Direct drain type
Dev drain type: Direct drain type
Sub-module:
TEL AC Power box
Cup temperature / Humidity
TEL Chemical cabinet
(2) SMC Temperature Control Units (TCU)
Missing parts:
Temperature / Humidity
Oven cover
IRA Theta driver
IRA Z Driver
IRA Z Motor
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、TEL (TOKYO ELECTRON LIMITED)が製造するフォトレジスト機器です。このシステムは、10nmより小さい特徴を持つウェーハ製品を製造するために、半導体製造設備で使用されるように設計されています。本機は「単露光」フォトレジストマシンで、紫外線(UV)を単回投与してウェーハを露出させることで、小型機器の加工に最適です。TEL ACT 8ツールは、非常に安定した光源、ステッパータイプのウェハステージ、および関連する光学系および光学系を組み合わせて、ウエハをUV光で正確に露出させます。アセットのホストコンピュータでは、エクスポーズドパターニングプロセスを管理できます。TOKYO ELECTRON ACT 8モデルを使用して、複数のフォトレジストを使用してウェーハ上に望ましい回路設計を行うことができます。フォトレジストは、最終デバイスを作成するためのエッチマスクとして機能し、ウェーハの特定の部分がエッチング処理にさらされないようにします。フォトレジストを露出する前に装置が自動的に分配して焼成するため、迅速な処理が可能です。所望のパターン処理が完了すると、ウェーハはエッチング処理の準備が整います。このシステムは通常、シングルハッチングエッチングを使用し、エッチングされる層の反応性分子にエッチングガスを使用し、下のシリコンにパターンを作成します。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8ユニットは、複数のフォトレジストを使用して、より小さな機能とより繊細なデザインを実現するマルチハッチエッチングも可能です。機械は非常に信頼でき、光源および光学は長い寿命を過します。さらに、このツールはレーザーとソフトウェアを使用して、高精度でさらにフォトレジストの露出を保証します。ACT 8アセットの並列処理機能により、複数の複雑なフォトレジストパターンを素早く処理し、これまで考えられていたよりも高品質の集積回路を確保できます。TOKYO ELECTRON ACT 8フォトレジストモデルは、高度な集積回路を高速に作製するために設計された、高精度な単露光フォトレジスト装置です。このシステムの信頼性の高い光源と光学系、およびシングルハッチおよびマルチハッチングエッチング機能により、半導体製造設備に最適です。
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