中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9248792 を販売中
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ID: 9248792
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Direction: Right to left
(25) Slots
(4) Uni-cassette loaders
Main controller: Type 2
CSB
PRB1
IFB
Power box
T&H Controller
Chemical box
Thermo controller
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pick-up cassette
Uni-cassette system
Coater unit (2-1, 2-2):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled lines for etch unit
RRC Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3 Liters (2) Tanks buffer tank system
P.R Suck-back valve type: Air operation suck-back valve
Programmable side rinse
Drain: Direct drain
Developer unit (2-3, 2-4):
Steam nozzle for each unit
(2) Stream nozzles for DI rinse and 2-points for back side rinse on each unit
Developer system: 3 Liters (2) tanks buffer tank system
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
Interface type: ASML
(8) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Chilling hot plate process stations (CHP)
TCP Module
(2) TRS Modules
WEE (wafer Edge Exposure) Module
Wafer type: Notch
Chemical cabinet
TEL / TOKYO ELECTRON Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
Missing parts:
2-5, 2-17 ADH Module assemblies
Circulator pump
IRA T Axis motor driver
WEE CCD Board
WEE X Axis motor driver
(2) 2-2 COT P.R Pumps
(2) Developer buffer tanks
2-2 Spin chuck
T&H Controller
Main controller hard disk
System power rating: AC 208V, 3-Phase
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、半導体加工のための先進的なフォトレジスト機器です。これは、特に高度な14nm以下のプロセスノードで、困難な微細ライン処理で優れたパフォーマンスを提供するように設計されています。TEL Clean Track ACT 8は、基板表面全体に均一な層の堆積を維持しながら、最大8。4m/sの速度で走行可能です。その先進的なディスペンスシステムは、ウェーハの表面全体に均一な膜の沈着を保証する変更された液体ゲート技術（LGT）を備えています。また、LGTはデッドバンドサイズを小さくすると同時に、プロセスのスループットを向上させることができます。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8には、特殊なノズルを使用してフォトレジストの流量と流量を正確に制御する新しいCozFlow Dispense Technologyも搭載されています。これにより、成膜精度が向上します。オプションのクリーントラック精密ポイントレーザーユニットを使用することで、クリーントラックACT 8のパフォーマンスをさらに向上させることができます。この独自のレーザーマシンは、必要なレジストパラメータを得るために調整されたソリッドステートレーザーによって、ウェーハ表面にフォトレジストフィルムを適用する際の精度と均一性を向上させます。このツールから得られた結果は、従来の光学リソグラフィ技術で得られた結果よりも優れています。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、高コントラストエッチングが可能な高度な自動洗浄アセットです。このクリーンアップモデルは、製造プロセスで使用される化学物質の残留物を除去し、さらなる処理のためにウェーハを準備するように設計されています。また、TEL Clean Track ACT 8は、先進的な半導体プロセスに理想的なソリューションとなる数多くの機能を備えています。これらには、ウェーハ加工の進捗状況を示す統合リアルタイムプロセスモニタ、操作しやすいタッチスクリーン、および必要なパターンサイズに対応するためにレジストフィルムの幅を調整する機能が含まれます。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8の高度な機能により、複雑で精密な半導体製造プロセス、特に高度な14nm以下のプロセスノードに最適なソリューションとなります。Clean Track ACT 8を使用することにより、エンジニアと技術者は、一貫した結果を達成しながら、設計を正確かつ均一にパターン化することができます。
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