中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9237166 を販売中
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ID: 9237166
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
R-Type
Inline type
Hard Disk Drive (HDD)
(4) Loaders
(2) Blocks
(2) Adhesion (ADH) process stations
(12) Low temperature Hot Plate (LHP) stations
(2) High temperature Hot Plate (HHP) Process stations
(8) Chilling Plate (CPL) Process stations
(4) Chilling Hot Plate (CHP) Process stations
(2) Shuttle (SHU) Modules
(2) Cup Washer Holder (CWH) Units
(4) Transition Stage Units (TRS)
Coat process station (COT):
(3) Nozzles
RRC Pump
Solvent automatic supply: 3L (2) Buffer tanks
Side rinse (EBR)
(2) Back Side Rinses (BSR)
Develop process station (DEV):
Single nozzle
H Nozzle
Solution automatic supply: 3L (2) Buffer tanks
(2) Rinse nozzles
(2) Back side rinses
IFB
EIS Type: ASML
WEE
AC Power box
Chemical box
Temperature controller
T&H: KOMATSU 1821
MFC
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、集積回路(IC)製造装置のリーディングメーカーであるTELが開発したフォトレジスト機器です。TEL Clean Track ACT 8は、4点接触システムと高性能で低角度のクリーニング手順を備えています。東京電機クリーントラックACT 8は、最高水準のフォトリソグラフィ加工製品を維持するために、クリーンな基板表面を維持しながら、安定した信頼性の高いレジスト成長を実現します。クリーントラックACT 8ユニットは、高精度で高解像度のパターニングを提供することにより、マイクロプロセッサやその他のICセンサーのフォトリソグラフィ層を改善するように設計されています。これを行うには、光学ステッパーと紫外線(UV)光源の2つの主要なコンポーネントを使用します。光学ステッパーは、2つのミラーとレンズで構成され、フォトレジストが基板に堆積するための望ましいパターンを作成します。UV光源は基板の均一な照明を提供します。このツールは低角度のクリーニング手順を提供し、表面汚染物質がフォトリソグラフィ層に干渉しないようにします。パターニング層が形成されている最も重要な段階でも、表面をきれいにすることができます。「TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8」の低角度洗浄手順は、欠陥の原因となる粒子や吸着物などの除去に役立ちます。TEL Clean Track ACT 8の4点接点アセットは、光学ステッパーの精密スロットに基板を配置します。このモデルは、精密アライメント装置を使用して、フォトレジストフィルムの正確なパターニングのために、基板を移動する光学部品に正確に整列させます。これにより、フィルムが基板に均等かつ放射状に適用されることが保証されます。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8のプロセス監視・制御システムは、あらゆるレベルの操作とパラメータを継続的に監視し、一貫した反復可能なレジスト厚さを保証します。これは、歩留まりと欠陥のない製造結果を確実にするのに役立ちます。クリーントラックACT 8は、IC製造のためのフォトレジスト成膜の強力な方法です。基板の清浄度を維持し、安定した信頼性の高いレジスト成長を確保しながら、欠陥を最小限に抑えた高解像度パターニングを実現します。
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