中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9235802 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、半導体産業のための費用対効果と強化されたフォトレジストプラットフォームを提供するフォトレジスト機器です。スキャナとAuto Mask Chuck （AMC）プラットフォームを組み合わせて使用し、1つのプラットフォームでスキャンからマスクへの登録と露出タスクを実行します。このプラットフォームは、動作コストを削減し、フォトレジストシステムのパフォーマンスを向上させ、1つのウェーハを処理する時間を短縮することでスループットを向上させるように設計されています。TEL Clean Track ACT 8は、露光プロセスの精度とスループットを向上させる革新的な技術を使用しています。マスクを固定するために使用されるオートマスクチャック（AMC）は、マスクが正確かつ正確に整列されることを保証するために、安定性の高い微小突起を備えています。組み込みスキャナにはオートフォーカスとスキャン速度も組み込まれており、スキャン操作を高速化することでスループットを向上させます。TOKYO ELECTRONクリーントラックACT 8は大容量ポットアセンブリを採用。最大12枚のマスクまたは3枚のウェーハを保持し、2つのチャンバーに分かれています。最初のチャンバーは露出のためのマスクを摂取し、2番目は非再発ディスペンスバイアスを低減します。また、露光動作とディスペンス希釈の間でチャンバを迅速に交換することにより、優れた性能を提供し、スループットの削減による再校正の必要性を排除します。クリーントラックACT 8は、マスク露出用の5メガワットパルス光源（PLS）を備えています。フィルム吸収を低減するためのバックグラウンドソースの低減や、安定性の高い統合設計など、いくつかの利点があります。また、時間の経過とともに一定の光出力を維持し、正確な露出を確保するために、アクティブなプロセスモニタリングが組み込まれています。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8ユニットは、フォトレジストシステムのスループットと費用対効果を高めるための革新的な技術を使用して開発されました。スキャナーとオートマスクチャックを組み合わせ、大容量のポットアセンブリとマスク露出用の5 メガワットPLSを内蔵しています。これらの機能により、ウェーハを正確かつ迅速に処理し、半導体産業におけるフォトレジストプロセスのコストとパフォーマンスを向上させることができます。