中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9191941 を販売中
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販売された
ID: 9191941
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2015
Photoresist processing system, 8"
Carrier station (CSB)
With 1 x 4 loader
Pick up stage
Coater unit (COT) for resist coating
Resist dispense line
With TEL HPT Resist pump (LOR 10A)
Adjustable suck-back valve
Resist consumption feature
Backside rinse
Programmable topside edge bead remover
Programmable dummy dispense
Direct drain
Yellow LED light module in spinner unit
PTI Active mass flow control
Polymide coater unit (PCT):
Pressurized dispense system for polymide:
Lit-lifting mechanism
With pressure sensor system
Backside rinse
Programmable topside edge bead remover
Programmable dummy dispense
Direct drain
Yellow LED light module in spinner unit
PTI Active mass flow control
Developer unit (DEV) for puddle develop
Super H nozzle (TMAH)
Top and backside rinse (DIW)
Yellow LED light module in spinner unit
Direct drain
Polyimide developer unit (PI DEV):
Spray nozzle set for spray develop (Cyclopentanon)
Straight nozzle for puddle develop (Cyclopentanon)
Spray nozzle set for spray rinse (PGMEA)
Top and backside rinse (PGMEA)
Yellow LED light module in spinner unit
Direct drain
Central Supply PCS (Pump chemical supply system) for Cyclopentanon
With two-canister auto-switch system
Central supply two-tank auto-supply system (PGMEA and TMAH)
Thermal units:
Chill plate process station (CPL)
Low temperature hot plate process station (LHP)
Heater cover hot plate process station (HCH)
Transition stage (TRS)
Transition chill plate (TCP)
Cup washer holder (CWH)
AC Power box: 208VAC
Thermostatic water supply unit
Side cabinet for polyimide & PGMEA Supply
Chemical cabinet for Cyclopentanon & TMAH supply
Cup temperature & humidity controller CP-2 (Coater & PI coater unit)
CE Marked
2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、優れたクリーンルーム性能とスループットを提供するように設計された先進的なフォトレジスト機器です。アクティブクリーニングプロセスとケミカルフリーの保管とフォトレジストウエハの搬送を組み合わせた自動トラックユニットを採用しています。最適化されたレジスト供給機は、高い生産性、高い均一性、および最小限のウェーハ汚染をさらに保証します。TEL Clean Track ACT 8には、粒子沈着に抵抗するように設計されたサセプタツールが含まれています。このアセットには、最適なパフォーマンスを確保するためのいくつかの機能が装備されています。ウエハー表面へのフォトレジストの密着性を高めるために特殊なコーティングプロセスを実装し、全表面積と均一な膜厚を保証します。自動化されたモデルは、ウェーハのサイズを認識し、指定されたレジストタイプを識別します。モジュラー装置はまた、現在の要件とウエハサイズに基づいてフライで調整できる柔軟な容量を備えています。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8独自のレジストシステムは、いくつかの利点をもたらします。洗浄液は、有機物質の導入を最小限に抑える水溶液であり、オンデマンドでユニット内で生成されます。これにより、汚染からのさらなる保護が保証されます。プリプログラムされた液体消費率は、高速処理のためにマシンを最適化します。レジスト供給ツールは、常に露出したレジストを汚染から保護するために密閉されたままになります。さらに、クリーントラックACT 8には、いくつかの高度な安全機能が装備されています。内蔵の低圧レジストスプレーアセットにより、空気中の粒子への曝露リスクを低減し、基板ウェーハを汚染から保護します。また、クリーンルーム環境においても優れた性能を発揮するように設計されており、0。2〜0。6バーという狭い動作範囲を誇っています。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8独自の設計により、スループットの向上とウェーハ汚染の最小化を実現し、シリコン、セラミック、石英など様々な基板で高い歩留まりを実現しています。フレキシブルな容量と自動化されたプロセスにより、TEL Clean Track ACT 8は、フォトレジスト機器から高いパフォーマンスを要求されるクリーンルーム操作の費用対効果の高いソリューションとなります。
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