中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9190707 を販売中

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ID: 9190707
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Resist coater / Developer, 8" Multi block Wafer type: Notch In-line with stepper type: NIKON B12 Wafer flow direction: Right to left Spinner unit configuration: 2C Function of coater heads: (4) Nozzles / Coater With individual pump per nozzle / Prewet nozzle Main body frames: (3) Blocks Indexer Coater / Developer Interface SMIF: (3) Indexers Robot arm: Ceramic / Aluminium LHP: 250 deg (+/- 2deg) PCHP: 150 deg (+/- 2deg) CPL: 22 deg (+/- 2deg) Cooling plate temperature control system: PID Controller Spin developer head: 4D Functions for developer coater heads: (2) Developer lines with H Nozzle / DIW Center rinsing Developer dispense: N2 Pressure DIW Rinse with flow meter: Top-side Back-side Programmable exhaust damper (Screen std) Filter for developer and DIW (Pall DFA1FTS 64M, 0.1um): CHUV2LOP1 UPE Filter: 100 nm Developer temperature control system: ETU Controller Chemical cabinet Drain pans With leak sensors (Main body and DD cabinets) Double containment for chemical lines: DD Cabinet to main body (EBR / Cup rinse) TEL Tower lamp Power requirements: 220 V, 3 Phase, 4 Wire, 50-60 Hz 2000 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8は、高精度、高精度、ナノパターニングを実現する先進的なフォトレジスト装置です。フォトレジストシステムは、最短時間で最も一貫した結果を保証する合理化された設計および運用プラットフォームを提供します。ユニットは、まず(露出機を使用して)基板材料を光にさらし、次に基板にフォトレジストを適用することによって動作します。フォトレジストはマスキング層として機能し、パターンが望まれる領域で基板材料に到達する光の一部を遮断します。このパターンは、光源の露光時間、強度、角度、フォトレジストの組成を制御することによって達成されます。TEL Clean Track ACT 8は、毎回正確なリソグラフィー要件を保証するオートフォーカスツール、空気圧ドア付きの囲まれたチャンバー、プログラム可能な調整、その他の機能のホストなど、堅牢な操作機能セットで設計されています。このアセットの高度な機能により、ミクロンからサブミクロンまでのレイヤー/レイヤーの範囲でパターンを作成でき、最小フィーチャーサイズは10nmです。このモデルは、チップ製造、半導体デバイスのターゲティング、マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEM)、ディスプレイ技術などに最適です。フォトレジスト機器には2つの主な利点があります。1つ目は、複数のリソグラフィーモジュールの代わりに1つのフォトレジストシステムを使用する必要があるため、コストの削減です。2つ目は、オペレータによる手動干渉なしでパターンを素早く描画できるため、スループットが向上します。これに加えて、ユニットは、より短い期間でより正確な結果を生成するために、特定のアプリケーション要件に最適化することができます。調整可能な特徴としては、フォトレジストの化学組成、基材の層厚、パターン収縮係数などがあります。東京電機クリーントラックACT 8フォトレジストマシンは、ナノスケール電子デバイスのデータ駆動開発やパターニングに最適なプラットフォームです。このツールは、より短いターンアラウンドタイムで結果を改善し、コスト効率と技術プロセスの改善の両方をもたらします。これは、高度でハイテクなアプリケーションを開発するための信頼性と費用対効果の高いプラットフォームを探しているお客様に最適なソリューションです。
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