中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165439 を販売中
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ID: 9165439
ウェーハサイズ: 8"
(4) Coater / (4) Developer system, 8"
Double block
DUV
IFB
Right to left wafer flow
(4) SUCs
SMIF Interface for ASML PAS 5500.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、複雑な構造やエッチングプロセスの精密なリソグラフィを可能にする高性能フォトレジスト装置です。フォトレジストプロセスの欠陥発生を低減し、高い歩留まりと欠陥のない表面を確保するように設計されています。TEL Clean Track ACT 8は、走査型電子顕微鏡(SEM)を使用して、ディザリングと高解像度イメージングを利用したウェーハ上に極限パターンを作成します。このシステムは、標準的な正と負のタイプだけでなく、新しい、より堅牢な材料を含む、さまざまなフォトレジストソリューションと互換性があります。高解像度のフォトレジストと精密なリソグラフィ製造プロセスを組み合わせることで、高精度な製品を実現します。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8には、優れた均一性と欠陥のリスクを最小限に抑えた高品質な製品を保証するために設計された多くの特殊機能が組み込まれています。これには、高度な熱分布ユニットでウェーハを均等に加熱する特殊な加熱ウェーハホルダーが含まれます。また、フォトレジストからエアポケットを取り外すための3段階の真空脱ガス処理も含まれています。また、クリーントラックACT 8には、欠陥をスキャンする自動検査技術が搭載されています。この機能により、ユーザーは問題となる可能性のある領域をすばやく特定でき、迅速な是正措置が可能になります。欠陥のない領域は、必要な精度と品質を確保するために光学的に検査されます。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8は、不具合を最小限に抑えた複雑な設計の正確なリソグラフィを可能にする強力なフォトレジストツールです。高い精度と均一性を確保しながら、ユーザーが潜在的な問題を迅速かつ正確に特定できるいくつかの機能を備えています。その結果、優れた一貫性を持つ欠陥のない表面が得られ、効率的で信頼性の高い製造プロセスが可能になります。
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