中古 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612 を販売中
この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。
タップしてズーム
販売された
ID: 9278612
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Right to left
Carrier type: Notch
25-Slots
(3) Main controllers
(2) Processor blocks
(2) PRB's
(2) Thermo controllers
NIKON Stepper
H-Type nozzle
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
(4) ASYST RFID FOUP Systems
Normal cassette type
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4):
(4) Dispense nozzles with temperature control lines
RDS pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
(2) Rinse systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Programmable side rinse
Direct drain type
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4) NDP type:
NLD Nozzle
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
(2) Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Developer temperature control system
Direct drain type
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(12) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
(13) High-Speed Cill Plates (HCP)
(6) High-Precision Hot Plates (PHP)
Transition Chill Plate (TCP)
(2) Transition Stages (TRS)
(2) Wafer Edge Exposures (WEE)
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
(2) Temperature Control Units (TCU)
MFC
Missing parts:
IRA Z-Axis driver
IRA Y-Axis driver
IRA TH-Axis driver
Temperature and humanity controller
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: AC 200/220 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12は、TEL （TOKYO ELECTRON）が開発したフォトレジスト加工装置です。半導体デバイスの製造に関わるリソグラフィックプロセスと後処理の両方をサポートします。レーザースキャナー、液浸ユニット、自動ディスペンス、アライナーを組み合わせることで、フォトレジスト加工のための汎用性の高いツールとなっています。レーザースキャナーは、超短レーザーパルス幅を使用してシリコンウェーハ上のフォトレジスト層を露出するために使用されます。レーザーパルスは、正確なフィーチャーパターンのためにフォトレジスト層を反映するように微調整されています。液浸機械は処理室で分配される液体の自然な浮力を利用して均一なフォトレジストのコーティングを保障します。ディスペンスとアライナーにより、必要に応じて追加のレジストレイヤーを正確に適用できます。TEL Clean Track ACT 12では、異なる露出を可能にし、加工パラメータを調整して目的のフィーチャーのパターンを変化させることができます。高密度フィーチャーパターニングまたはエッチングプロセスの線幅制御の両方を選択できます。これにより、特定の設計要件に合わせて処理を調整する汎用性がユーザーに提供されます。このツールは安全機能を内蔵しています。レーザースキャナーのインラインカメラセンサーは、ウェーハが正しく配置され、汚染がないことを確認します。さらに、浸漬アセットはフォトレジスト汚染を低減する効果的な手段を提供するため、ユーザーはウェーハや加工チャンバーの汚染を心配する必要がありません。300mmウェーハ処理用に構築されたTOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12は、前任者よりスループットを向上させました。このモデルは、低コストの消耗品を使用し、エネルギーの使用において非常に効率的であり、ユーザーは生産コストを削減しながら、環境負荷を低減することができます。全体として、Clean Track ACT 12は、最新の半導体デバイスの要求に応えるように設計された最先端のフォトレジスト処理装置です。そのレーザースキャン、液浸、アライナー技術は、生産のための迅速なターンアラウンドを可能にします、その組み込みの安全機能は、プロセス制御の最高レベルが維持されていることを確認しながら、。低コストでエネルギー効率に優れた設計により、あらゆる半導体製造プロセスにおいて貴重な費用対効果の高いツールとなります。
まだレビューはありません