中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9285381 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、半導体デバイス製造に使用されるフォトレジスト機器です。このシステムは、集積回路の製造における基板膜の成膜およびドライエッチングに使用されるように設計されています。TEL ACT 8ユニットは、絞りレーザーマスクを採用した先進的なマスクレスフォトレジストマシンを採用し、高感度基板へのパターンの高解像度撮影を可能にします。絞りレーザーマスクは、基板の上に固定距離を置き、スキャン機能と露出機能の両方で使用されます。このツールは、必要な基板スパッタコーティングを提供し、レジスト材料の均一な適用を可能にするレジストノズルと統合されています。この資産は、画像処理のための高解像度を持っています。高周波変調ベースのレーザーエンジンを搭載し、基板上に高解像度、高精度の画像を高均一性で生成します。この機能により、パターンの忠実度が向上し、プロセスの歩留まりが大幅に向上します。また、東京エレクトロンアクト8フォトレジスト装置は、フィルムと絶縁層の相互接続を可能にする光学活性層技術を有し、マルチレベル相互接続を実現しています。このレイヤー技術は、接触収率と接着性を向上させます。また、統合されたオートメーションにより、集積回路の製造に必要な時間とリソースを削減できます。このオートメーションは、最終製品のコストを削減するように設計されています。TOKYO ELECTRON ACT 8フォトレジストユニットは、高温ベークやエッチング用途に適しています。また、Cu-AlNフィルムなどの最新のウェーハ技術に対応し、複雑なデバイスの製造を可能にします。全体的に、ACT 8フォトレジストマシンは、半導体デバイスの製造と生産に最適な高度で高性能なツールです。このアセットには、内蔵の自動化とイメージングの解像度の向上があり、集積回路の製造コストを削減するのに役立ちます。また、困難なプロセス条件にも対応でき、最新のウエハ技術にも対応できるため、TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8フォトレジストモデルは、複雑なデバイスの製造に最適なソリューションです。