中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9282700 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、半導体材料の開発プロセスを批判的に制御するために設計されたアフォトレジスト機器です。集積回路などの複合材料を高密度、高精度、高収率で製造できるリソグラフィーシステムです。TEL ACT 8フォトレジストユニットの露光ステージには、一度に1枚のウエハーを収容できるコールドカソードランプ（CCL）が装備されています。ランプから放出されるエネルギーは、ウェーハの正確な露出を確保するためにウェーハセンシングマシンで測定されます。CCLとウェーハセンシングツールの組み合わせは、パターンのすべての機能が基板上に正確に配置されていることを確実にすることによって、正確な露出を約束します。フォトアライニングアセットにはオートフォーカスモデルも装備されており、ウェーハプロジェクションで使用されるレチクルとの迅速かつ正確なアライメントが可能です。また、開発工程においても、ウエハの温度制御を正確に行うことができます。これにより、バッチとウェーハ全体の結果の一貫性が確保され、より高い歩留まりが保証されます。使用している開発者は、複数の温度制御ゾーンを使用して厳密に制御された環境で保持され、さらに化学物質の保存寿命と開発されたレジストの高品質を確保します。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8には、前述の開発者と連携して開発した半導体ウェーハを正確に染色するグラビア開発ステーション「D-Station」が搭載されています。D-Stationには、キャリア、開発者、シリンダーなど、いくつかの要素が含まれています。これにより、現在半導体に堆積しているレジストにパターンを正確に開発することができます。最後に、ACT 8には、開発プロセスの露出後の焼成段階用のスプレーカプセルも装備されています。これにより、露出後のベーキングプロセスを制御することで、プロセスウィンドウを拡張しやすくなります。全体として、ACT 8は、集積回路やその他の複雑な材料の製造における正確な露出と開発のために設計された最先端のフォトレジスト機器です。その高精度な露光システム、温度制御デベロッパータンク、グラビア開発ステーション、スプレーカプセルはすべて協力して、開発プロセスで高い歩留まりと高い精度を保証します。