中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9252167 を販売中
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販売された
ID: 9252167
ウェーハサイズ: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
I-Line
Single block system
Wafer flow: Left to right
Process block: Single block system
Block 1(C/S Blk):
CS Add on board missing
Main controller: ACT #2
Y,Z,Th Motor, X,Y,Z,Th Drive
Touch screen
Pincette
Block 2(P/S Blk)
(2) Spinner I/O boards missing
(2) Coater units (2-1, 2-2)
Direct drain type
(2) PR Nozzle assemblies
(4) Back rinses
(2) EBR Nozzles
(2) Out cup assemblies
(2) Nozzle changer motors
(2) Spin motors & drivers
(2) Developer units: (2-3, 2-4)
(4) Back rinses
(2) H Nozzle assemblies
(2) Out cup assemblies
(2) Spin motors & drivers
Oven unit:
(7) LHP/ Low temperature hot plates
(4) CPL/ Chill plates
TCP
(2) TRS / Transfer stations
(2) ADH/ Adhesion process stations
PRA / Process block robotics arm:
Missing part: Pincette
TH Drive
PRA Motor
Missing parts:
(4) ADH Inject valves
(10) Air valve (AMDZ1-X61)
(2) Spinner I/O boards missing (Coater units (2-1, 2-2) Developer units: (2-3, 2-4))
(2) DEV Drine bottles
Power cable
THC: T&H-NRE-2-A-00
Power box: PB2-U200-03-DV2
TCU.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、半導体デバイスの製造に使用されるフォトマスクを製造するフォトレジスト機器です。高解像度で再現性の高い高精度なパターンを作成できるシステムです。フォトマスクパターンは、独自のDPE （Double Patterning Exposure）法によって作成されます。この方法は、単一のフォトレジストフィルムを2つの異なる光源からスキャンミラー投影で連続的に露出させることを含みます。このユニットはまた、ユーザー定義のマスク構成を利用して、さまざまなレベルの画像複雑さとフォトマスクジオメトリを使用して、ユーザーはフォトマスクパターンをカスタマイズすることができます。TEL ACT 8のフォトマスクは、様々な工程で作られています。まず、ガラス基板にアモルファスシリコン樹脂をコーティングし、フォトマスクのパターンとして機能します。次に、フィルムは光にさらされ、フォトレジストルール層を設定します。光は露出した樹脂を重合させ、特定の化学溶液に不溶となる。これにより、エッチングラインパターンが作成されます。最後に、この模様をガラス基板に移します。このフォトマスク機の解像度は非常に印象的で、最小ライン/スペースは0。08ミクロン、ピッチは800万画素のアレイ全体で最大0。2ミクロンで、東京エレクトロンACT 8は最も厳しい半導体デバイス製造アプリケーションに最適です。0。001ミクロン未満の再現性により、優れた製品品質と歩留まりを保証します。また、TOKYO ELECTRON ACT 8の設計により、一般的に数時間から1日までの露光時間を短縮することができます。TEL ACT 8ツールは、洗練されたエラーチェックと自動補正ソフトウェアツールのセットも備えています。これらのツールは、エッチングされたフィルムをレビューする前に手動で許容範囲外の条件を修正し、複雑なパターンが正確に生成されるようにします。したがって、TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、優れた再現性と精度で高度なフォトマスクパターンを生成できる信頼性の高いフォトレジスト資産です。
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