中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9244824 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、高度なリソグラフィ用に設計されたフォトレジスト機器です。このシステムは、高度な半導体ウェーハ技術の電子回路を開発するための高解像度、再現性、堅牢なパターニング機能を研究者や業界の専門家に提供します。このユニットは、形状とパターンのサイズを完全に制御することで、ナノ粒子の高解像度パターニングを可能にする、自己整列、多層レジスト技術に基づいています。レジストマシンは、深紫外線（DUV）光源と最適なパターニング性能に合わせたレジスト製剤で構成されています。ディープUV光源により、幅広い露光範囲のレジスト層を高精度かつ効率的にパターニングできます。レジスト製剤は、パターン寸法とそのリソグラフィック特性を正確に制御するために設計されており、優れたパターン忠実性と再現性を実現しています。これらの機能は、高い生産性と均一性を備えているため、高性能メモリやイメージセンサーなどの重要なアプリケーション領域に最適です。このアセットは混合層リソグラフィをサポートしており、設計者は複数の正負抵抗層を組み合わせてパターン寸法やその他の重要なパラメータを正確に制御することができます。さらに、このモデルは、再現可能で正確な結果を得るために事前にプログラムされたプロセスパラメータを備えた高度なオートフォーカスおよびオートエクスポージャー機能を備えています。TEL ACT 8機器には直感的なインターフェイスとユーザーフレンドリーなコントロールが装備されており、ユーザーはすべてのプロセスパラメータに便利で正確にアクセスできます。また、包括的なドキュメントと広範なアプリケーションサポートが付属しています。このシステムは、幅広いエッチングおよび成膜プロセスと互換性があり、マルチプロジェクトウェーハ機能にも対応しています。TOKYO ELECTRON ACT 8は、高度なリソグラフィに優れた性能と再現性を提供する汎用性と効果的なフォトレジストユニットです。高度なオートフォーカスと露出機能を備えた優れたパターン制御と、要求の厳しいアプリケーションでも信頼性の高いプロセス忠実性を提供します。包括的なサポートとユーザーフレンドリーなインターフェースにより、研究室や生産環境に最適です。
まだレビューはありません