中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9241944 を販売中
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ID: 9241944
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
Dual block
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、TEL （TOKYO ELECTRON）が半導体生産プロセスにおけるフォトリソグラフィ用に設計したフォトレジスト装置です。TEL ACT 8システムは、高精度・小型化を実現した集積回路（IC）を実現します。このユニットは、照明リソグラフィと液浸リソグラフィのコア技術に基づいています。東京エレクトロンアクト8号機の強化された照明技術により、回折や歪みの影響を低減し、複雑なICを高精度に最適なパターン化することができます。その浸漬リソグラフィ機能は、非常に小さなピッチを可能にします。これは、NA投影レンズと放射光源を用いて実現しています。これにより、半導体ウェーハ上での正確なパターニングと高解像度印刷が可能になります。このツールには、ウェーハと最終製品を汚染する不要な光の反射を低減する高度な反射防止技術も付属しています。また、東京エレクトロンアクト8アセットには、リソグラフィ工程の前後または工程中にウェハ上の欠陥を検査するダーク基板（DS）検査モデルが組み込まれています。これにより、ウェーハの状態に関する正確なリアルタイム情報が得られ、最終製品の信頼性が大幅に向上します。また、マークアライメントシステム（MAS）を搭載し、ウェーハ上のチップ配置を正確に行うことができます。さらに、ユニットに含まれているパターン補正ソフトウェアは、各チップが生産中に適切な場所に配置されることを保証します。ACT 8マシンのCCDカメラは、リソグラフィ印刷プロセス全体の監視を可能にします。これは、プロセスが進行中にパターンの予期しない変化を監視するのに役立ち、ウェーハが破損する前に修正を行うことができます。このツールには、不正な人員がモデルにアクセスするのを防ぐための位置検出セキュリティ（PDS）アセットもあります。TEL ACT 8フォトレジスト装置は、現在IC製造に使用可能な最先端のフォトリソグラフィーシステムの1つです。照明技術と液浸リソグラフィ技術のバランスに優れているため、非常に複雑なICを最高の精度で製造することができます。DS検査とMASは、チップの配置とウェーハの品質を製造プロセス全体にわたって維持するのにも役立ちます。
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