中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9241917 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 （TEL/TE TEL ACT 8）は、半導体・ナノテクノロジー業界を中心に、要求の厳しい集積回路の製造に使用される先進的なフォトレジスト機器です。このシステムのフォトレジスト技術により、集積回路メーカーは非常に低い線幅とCD公差でパターンと機能を作成できます。TOKYO ELECTRON ACT 8の特徴は、高度なフォトレジストとマスクアライナーに依存した高解像度機能です。フォトレジストユニットは、フォトレジストを繰り返しコーティングし、非対称に定義された領域を燃焼させることによって機能します。これにより、トレンチ、小さなビア、ポケット、小さな角度を正確に作成できます。ACT 8のもう1つのコアコンポーネントは、マスクアライナーです。フォトレジストとウェーハを素早く正確に揃えることができ、フォトマスクパターンをフォトレジストに正確に移すことができます。また、マスクパターンやフォトレジストコーティングの急激な変化を可能にします。ACT 8のマシンには高度なイメージングと計測機能も搭載されており、フォトレジスト機能の特徴を調べる手段となっています。これには、光学測定、自動サンプリング、およびX線検査が含まれ、ウェーハの最小の特徴を正確に観察することができます。さらに、このツールは、永続的な波の歪みを減らすためにゼロの長さの過湿を使用します。この機能により、スタンディングウェーブノイズを低減することでアセットの分解能が向上し、微細構造間のコントラストが向上します。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8は、高効率液体インターフェースコーティング、ディープリアクティブイオンエッチング（DRIE）、酸化エッチングなどの機能を提供します。さらに、PPM （Precision Process Monitoring）装置は、プロセス状態に関するリアルタイムデータを提供し、正確なプロセス制御と再現性を実現します。TOKYO ELECTRON/TE TOKYO ELECTRON ACT 8は、コイル表面に近いウエハ加工に最適な環境を提供するよう設計されています。これにより、高品質のプロセス結果と再現性が保証されます。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON/TE TEL ACT 8は、非常に厳しい集積回路を製造するために設計された高度で高解像度のフォトレジストシステムです。その高度なイメージングおよび計測機能、高効率の液体インターフェースコーティングユニット、およびPPMマシンは、精密かつ再現性のある結果を可能にします。