中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142708 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9142708
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
(2) Coater / (2) Developer systems, 8" 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 (TEL/TE TEL ACT 8)は、東京エレクトロン(TEL/TOKYO ELECTRON)が開発したフォトレジスト機器です。このシステムは、露出と開発プロセスを使用して高品質の集積回路を製造するために設計されています。このユニットは、超高周波スキャナ、エネルギー源、基板ホルダーを含む一連の物理コンポーネントで構成されています。スキャナは、特定の露光波長の高輝度ビームを基板ホルダーに整列させて指示するために使用されます。その後、光のビームをElectric-Field-Plasma (E-F-P)コントローラによって変調し、フォトレジスト層を正確かつ再現可能にします。基板ホルダーは、露光プロセス中に基板とフォトレジスト層を保持するように設計されています。E-F-Pコントローラによる基板加熱の影響を最小限に抑えるために設計されています。最後に、このマシンには緊急停止スイッチなどの多くの安全機能も装備されており、オペレータは緊急時にプロセスを自動的に停止することができます。TEL/TE TOKYO ELECTRON ACT 8フォトレジストツールは非常に精密で信頼性の高いツールです。標準セルのような比較的大きなパターンを0。18ミクロンの分解能で生成することができ、特徴サイズは0。25ミクロンである。回路の高密度集積を可能にし、メモリーやマイクロプロセッサなどの先進製品に最適です。さらに、このアセットは0。5%の非常に低いピクセルからピクセルまでの歪み率を持ち、パターン精度が長期にわたって維持されることを保証します。この歪み率は、東京電子/TE ACT 8が同じパターンで複数の露出をプログラムすることでさらに向上します。東京エレクトロンアクト8は、高信頼性のフォトレジストモデルで、回路の正確なパターニングと高密度集積を実現しています。その特徴は、E-F-Pコントローラによる光源の変調、最小基板加熱、および低ピクセルからピクセルまでの歪みレートです。この装置は、高度な集積回路の製造に最適です。
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